精品文档---下载后可任意编辑光学邻近校正技术和版图热点管理技术讨论的开题报告一、选题背景随着芯片工艺的不断进步,其中的版图设计越来越复杂。但是, 芯片在制造过程中会面临多种多样的问题,如晶圆表面的不平整...
时间:2025-02-16 08:00栏目:行业资料