高通量微流控器件的设计与加工罗春雄掩模的制作掩模的制备是光刻中的关键步骤之一，其作用是在一个平面上有选择性的阻挡紫外光的通过，从而实现光刻胶的局部曝光.掩模的图形及尺度由计算机设计完成，常用的设计软件...
时间:2025-04-11 09:06栏目:行业资料
