用磁控溅射制备薄膜材料的概述 1 .引言 溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是一种重要的薄膜材料制备的方法。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被溅射的物质制成的靶电极...
时间:2025-03-12 14:14栏目:行业资料
