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MOSFET超薄氧化靠性研究开题报告

精品文档---下载后可任意编辑MOSFET 超薄氧化靠性讨论开题报告一、选题背景与意义随着微电子技术快速进展,晶体管氧化厚度在不断减小,同时,由于MOSFET 高集成度、高性能特性,它已经开始逐渐取代 ...

时间:2025-02-09 12:56栏目:行业资料

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