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PFinFET漏区SiGe外延应力研究开题报告

精品文档---下载后可任意编辑P FinFET 漏区 SiGe 外延应力讨论开题报告1. 讨论背景与意义:FinFET 是一种三维晶体管结构,相比二维晶体管具有更好控制、较小漏电流以及更高开关速度等优点,并被广泛应用于目...

时间:2025-02-10 09:57栏目:行业资料

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