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sSOI量子MOSFETNiSiGe源漏接触研究开题报告

精品文档---下载后可任意编辑高迁移率 SiGe/sSOI 量子 MOSFET NiSiGe 源漏接触讨论开题报告摘要:本文提出了一种新型高迁移率 SiGe/sSOI 量子 MOSFET NiSiGe 源漏接触讨论,旨在将其用于下一代高性能集成电路设计中。...

时间:2025-02-10 21:12栏目:行业资料

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