硅片清洗原理与方法介绍 1 引言 硅片经过切片、倒角、研磨、表面处理、抛光、外延等不同工序加工后，表面已经受到严重的沾污，清洗的目的就是为了去除硅片表面颗粒、金属离子以及有机物等污染。 2 硅片清洗的常用方法...
时间:2025-03-15 11:37栏目:行业资料
