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14-16nm以来CMOS技术节点源漏导体材料研究中期报告

精品文档---下载后可任意编辑14-16nm 以来 CMOS 技术节点源漏导体材料讨论中期报告近年来,随着导体工艺不断进步、芯片尺寸不断缩小,14-16nm 以来 CMOS 技术节点开始广泛应用于芯片制造领域。在这些技术节点...

时间:2025-02-07 08:25栏目:行业资料

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