薄膜材料与薄膜技术复习资料VIP专享

薄膜材料与薄膜技术第一章1.真空度划分：粗真空：105-102Pa 接近大气状态 热运动为主低真空：102-10-1Pa 高真空：10-1-10-6Pa超高真空：<10-6Pa2.吸附与脱附 物理吸附与化学吸附气体吸附：固体表面捕获气体分子的现象物理吸附：没有选择性、主要靠分子之间的吸引力、容易发生脱附、一般只在低温下发生化学吸附：在较高温度下发生、不容易脱附，只有气体和固体表面原子接触生成化合物才能产生吸附作用。气体脱附：是吸附的逆过程。3.旋片式机械真空泵用油来保持各运动部件之间的密封，并靠机械的办法，使该密封空间的容积周期性地增大即抽气；缩小，即排气，从而达到连续抽气和排气的目的。4.分子泵牵引泵：结构简单、转速小、压缩比大（效率低）涡轮式分子泵：抽气能力高、压缩比小（效率高）5.低温泵深冷板装在第二级冷头上，温度为 10-20k，板正面光滑的金属表面可以去除氮、氧等气体，反面的活性炭可以吸附氢、氦、氖等气体。通过两极冷头的作用，可以达到去除各种气体的目的，从而获得超高真空状态。6.真空的测量电阻真空计：压强越低，电阻越高 （p↓→R↑） 测量范围 105---10-2Pa热偶真空计：压强越低，电动势越高（p↓→ ↑Ɛ） 测量范围 102----10-1Pa电离真空计：三种（BA 型、热阴极、冷阴极）A：灯丝 （发射极）F：栅极（加速极） G：收集极第二章1.薄膜制备的化学方法以发生一定化学反应为前提，由热效应引起或由离子的电致分离引起。（热激活、离子激活）2.热氧化生长在充气条件下，通过加热基片的方式可以获得大量的氧化物、氮化物和碳化物薄膜。3.化学气相沉积优缺点：优点（记住四条）：① 成核密度高，均匀平滑的薄膜。② 绕射性好，对于形状复杂的表面或工件的深孔、细孔等都能均匀覆膜。③ 不需要昂贵的真空设备。④ 残余应力小，附着力好，且膜致密，结晶良好。⑤ 可在大尺寸基片或多基片上进行。可一制备金属和非金属薄膜，成膜速率快，面积大。缺点：① 反应温度太高，而许多基材难以承受这样的高温②反应气体可能与设备发生化学反应。三个过程：反应物输运、化学反应、去除附产物分类：常压式、低压式（NPCVD、LPCVD） 热壁（>500℃）、冷壁（LTCVD）发生的典型化学反应（记住四条）：分解反应、还原反应、氧化反应、氮化反应、碳化反应根据不同激活方式分类：① 激光化学气相沉积（LCVD）定义：利用激光源产生出来的激光束实现化学气相沉积的一种方法（激光加热非常局域化）② 光化学气相沉积（PC...