四氟化硅的工艺研发及进展状况VIP免费

4无机盐工业INORGANICCHEMICALSINDUSTRY第45卷第1期2013年1月四氟化硅的工艺研发及进展状况韩建军，李霞，王建萍(多氟多化工股份有限公司，河南焦作454191)摘要：四氟化硅是电子上业中的一种重要原料，随着多晶硅等行业迅猛发展需求量逐渐增大。详细介绍了四氟化硅的应用及市场情况．并对氟气合成法、氟硅酸盐热解法、硫酸法、氢氟酸直接反应法这4种主要生产方法进行详细论述．讨论了各工艺方法的生产原理、工艺简述、研究状况并对工艺的优缺点进行了评价。就目前市场形势分析．国内四氟化硅需开发高端产品，以适应市场需求和参与国际竞争。关键词：四氟化硅：氟硅酸；氢氟酸；氟气中图分类号：TQl27．2文献标识码：A文章编号：1006—4990(2013)01-0004—04ResearchanddevelopmentonprocessofsilicontetrafluorideandtheprogressthereofHanJianjun，LiXia，WangJianping(Do一用uorideChemicalCo．，Ltd．，Ji∞zuo454191，China)Abstract：Silicontetrafluorideisanimportantrawmaterialintheelectronicsindustry．Itsdemandgraduallyincreaseswiththerapiddevelopmentofpolysiliconandotherindustries．Applicationsandmarketconditionsofsilicontetrafluoridewereintro—ducedindetail．Fourmainproductionmethods，suchasfluorinesynthesismethod，fluorosilicatepyrolysismethod，sulfuricacidmethod，anddirecthydrofluoricacidreactionmethod，wereelaboratedindetail．Theprinciplesofproduction，processfloWsandresearchsituationsofthefourmethodswerediscussed。Furthermore．theiradvantagesanddisadvantageswerealsoevaluated．Accordingtothepresentmarketsituationanalysis，Chinesesilicontetratluorideneedstomoveintothedevelop—mentofhigh—endproducts，inordertoadapttothemarketdemandandtoparticipateintheinternationalcompetition．Keywords：silicontetrafluoride；fluosilicicacid；hydrofluoricacid；fluorine1四氟化硅的应用及市场分析SiF。是有机硅化合物的合成材料．用于氟硅酸及氟化硅的制造。水泥和人造大理石的硬化剂。还用于硅的外延生长、等离子蚀刻、太阳能电池、复印机感光筒、非晶硅膜生成和化学气相淀积等。另外，由于SiF。在高温火焰中水解可产生具有高比表面积的热沉SiO，．因此可用作光导纤维用高纯石英玻璃的原料。目前四氟化硅具有很大的市场需求空间．国外主要的生产厂家有：美国的Allied化学公司、Praxair公司和AirProducts公司．日本的三井化学公司、昭和电工化学公司和中央硝子公司等。近年来国内SiF。制备工艺也在不断发展．主要生产厂家有：河南华都氟业、天津赛美特、北京华科微能、北京绿菱、广州谱源等，但SiF4质量和产量与国外相比还有一定的差距。2四氟化硅制备工艺综述2．1单质硅与氟气反应制备氟是非常活泼的元素．在常温下．几乎能和所有的元素化合．大多数金属都会被氟腐蚀。许多非金属，如硅、磷、硫等同样也会在氟气中燃烧。使用高纯度的单质硅与氟气直接反应可以制备四氟化硅，其反应方程式如F：s“2F2_—+siF4T此反应由于高纯度的氟气原料制备困难．且氟气有剧毒．对设备及工作人员有严格要求，因此不适合工业化规模生产。2．2氟硅酸盐热解法2．2．1工艺原理及工艺简述利用磷肥行业副产的氟硅酸制得氟硅酸盐．然后将氟硅酸盐在高温、微负压下热裂解制备四氟化硅并联产氟化盐。H2SiF6+R20——+R2SiF6i+H20或H2siF6+2Rcl—_÷R：SiF6，+2HClR2siFf——+2RF+siF。T粤毙R2SiF。——}2RF+siF。T以氟硅酸钠为例．利用磷肥厂副产的氟硅酸制备氟硅酸钠．将氟硅酸钠在煅烧炉内以200～300℃的高温进行干燥热处理．去除水分．煅烧炉内维持负万方数据2013年1月韩建军等：四氟化硅的工艺研发及进展状况5压值为⋯29498Pa．将干燥后的氟硅酸钠输送人回转反应炉．在400～900℃下热裂解l～2h．制得粗产品四氟化硅和氟化钠．粗产品四氟化硅经处理后得到高纯度四氟化硅气体．氟化钠一部分返回系统调配物料，另外一部分作为产品进行外售。2．2．2工艺优缺点优点：所用原料易得，价格低廉，原料利用率高，生产工艺简单；反应单一、产...