细小离地间隙部件的清洗序言由于电子工业中元器件的复杂程度不断增加,导致了元器件与基板之间的空隙越来越狭窄
与此同时,对元器件的稳定性以及寿命的要求在不断的增加,特别是在射频领域当中
因此,清洗细小离地间隙部件的残留物变得尤为的重要
为了更清楚地认识它的重要性,我们进行了一项研究,即通过调整清洗工艺中的参数(例如:清洗剂、清洗温度、清洗设备等)来确认不同参数对细小离地间隙部件清洗效果的影响
背景小型元器件(例如:0201和01005)对清洗有相当高的要求
由于元件持续的小型化(间距小于1MIL)、离地间隙的变小(低于35µm)以及倒装晶片越来越广泛的应用,清除元件底部的助焊剂残留变得更为困难
元件底部的助焊剂残留物(图一)会对后续工艺造成诸多影响,例如敷型涂覆或底部填充材料的使用以及对元件的长期可靠性造成影响,例如:信号变形或漏电
图一:片式电容周围以及底部的助焊剂残留物清洗工艺由上文可见问题在于何种清洗工艺能够符合细小间隙对洁净度的要求
一项合适的清洗工艺不应只是使清洗剂流过间隙处,,而应该影响并清除每个部件底部的残留物,最为重要的是能够避免如图二所显示的二次污染
图二:清洗/漂洗/干燥的原理自从电子组装件去除助焊剂可自动化清洗后,许多清洗工艺例如超声、喷流、喷淋、批量清洗和在线清洗的工艺便建立了
与此同时,为了能够获得更高的性价比以及更环保,水基型喷淋工艺成为目前全球各生产企业最领先的工艺
我们进行了大量的研究,确定了水基型喷淋工艺不同的参数对洁净度的影响,进而提高细小底部间隙的清洗表现
清洗实验设置总的来说,清洗设备的设置以及清洗剂都会影响清洗结果
因此,我们详细制定了会影响清洗结果的参数列表:清洗设备参数清洗剂参数喷嘴种类清洗剂种类喷淋压力清洗剂浓度喷淋角度清洗剂温度基板与喷嘴的间距清洗时长为了更好地证明实验结果,作者使用一台在线喷淋清洗设备,系统进行了详尽的实验设计