1.为了讨论真空和实际使用方便，根据各压强范围内不同的物理特点，把真空划分为 粗真空 ， 低真空 ， 高真空 ， 超高真空 四个区域。2.在 高真空 真空条件下，分子的平均自由程可以与容器尺寸相比拟。3.列举三种气体传输泵 旋转式机械真空泵 ， 油扩散泵 和 复合分子泵 。4.真空计种类很多，通常按测量原理可分为 绝对真空计 和 相对真空计 。5.气体的吸附现象可分为 物理吸附 和 化学吸附 。6.化学气相反应沉积的反应器的设计类型可分为 常压式 ， 低压式 ， 热壁式 和 冷壁式 。 7.电镀方法只适用于在 导电的基片 上沉积金属和合金，薄膜材料在电解液中是以 正离子 的形式存在。制备有序单分子膜的方法是 LB 技术 。8.不加任何电场，直接通过化学反应而实现薄膜沉积的方法叫 化学镀 。9.物理气相沉积过程的三个阶段：从材料源中发射出粒子，粒子运输到基片和 粒子在基片上凝聚、成核、长大、成膜 。10. 溅射过程中所选择的工作区域是 异常辉光放电 ，基板常处于 负辉光 区，阴极和基板之间的距离至少应是 克鲁克斯暗区 宽度的 3-4 倍。11. 磁控溅射具有两大特点是 可以在较低压强下得到较高的沉积率 和可以在较低基片温度下获得高质量薄膜 。12. 在离子镀成膜过程中，同时存在 吸附 和 脱附 作用，只有当前者超过后者时，才能发生薄膜的沉积。13. 薄膜的形成过程一般分为： 凝聚过程 、 核形成与生长过程 、 岛形成 与 结合生长过程 。14. 原子聚集理论中最小稳定核的结合能是以 原子对结合能 为最小单位不连续变化的。15. 薄膜成核生长阶段的高聚集来源于： 高的沉积温度 、气相原子的高的动能 、 气相入射的角度增加 。这些结论假设凝聚系数为常数，基片具有原子级别的平滑度。16. 薄膜生长的三种模式有 岛状 、 层状 、 层状 - 岛状 。17. 在薄膜中存在的四种典型的缺陷为： 点 缺陷 、 位错 、 晶界 和 层错 。18. 列举四种薄膜组分分析的方法： X 射线衍射法 、 电子衍射法 、扫描电子显微镜分析法 和 俄歇电子能谱法 。19. 红外吸收是由引起偶极矩变化的分子振动产生的，而拉曼散射则是由引起极化率 变化的分子振动产生的。由于作用的方式不同，对于具有对称中心的分子振动， 红外吸收 不敏感，拉曼散射 敏感；相反，对于具有反对称中心的分子振动，红外吸收 敏感而 拉曼散射 不敏感。对于对称性高的分子振动，拉曼...
