晶圆封装测试工序和半导体制造工艺流程
txt-两个人同时犯了错,站出来承担的那一方叫宽容,另一方欠下的债,早晚都要还
-不爱就不爱,别他妈的说我们合不来
晶圆封装测试工序一、IC检测1
缺陷检查DefectInspection2
DR-SEM(DefectReviewScanningElectronMicroscopy)用来检测出晶圆上是否有瑕疵,主要是微尘粒子、刮痕、残留物等问题
此外,对已印有电路图案的图案晶圆成品而言,则需要进行深次微米范围之瑕疵检测
一般来说,图案晶圆检测系统系以白光或雷射光来照射晶圆表面
再由一或多组侦测器接收自晶圆表面绕射出来的光线,并将该影像交由高功能软件进行底层图案消除,以辨识并发现瑕疵
CD-SEM(CriticalDimensioinMeasurement)对蚀刻后的图案作精确的尺寸检测
二、IC封装1
构装(Packaging)IC构装依使用材料可分为陶瓷(ceramic)及塑胶(plastic)两种,而目前商业应用上则以塑胶构装为主
以塑胶构装中打线接合为例,其步骤依序为晶片切割(diesaw)、黏晶(diemount/diebond)、焊线(wirebond)、封胶(mold)、剪切/成形(trim/form)、印字(mark)、电镀(plating)及检验(inspection)等
(1)晶片切割(diesaw)晶片切割之目的为将前制程加工完成之晶圆上一颗颗之晶粒(die)切割分离
举例来说:以0
2微米制程技术生产,每片八寸晶圆上可制作近六百颗以上的64M微量
欲进行晶片切割,首先必须进行晶圆黏片,而后再送至晶片切割机上进行切割
切割完后之晶粒井然有序排列于胶带上,而框架的支撐避免了胶带的皱褶与晶粒之相互碰撞
(2)黏晶(diemount/diebond)黏晶之目的乃将一颗颗之晶粒置于导线架上并以银胶(epoxy)粘着固