真空镀膜技术-沈阳科特真空——新材料科研设备制造基地（金VIP专享VIP免费

第1页共3页编号：时间：2021年x月x日书山有路勤为径，学海无涯苦作舟页码：第1页共3页★一般术语真空镀膜vacuumcoating在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。基片substrate膜层承受体。试验基片testingsubstrate在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。镀膜材料coatingmaterial用来制取膜层的原材料。蒸发材料evaporationmaterial在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。溅射材料sputteringmaterial在真空溅射中用来溅射的镀膜材料。膜层材料(膜层材质)filmmaterial组成膜层的材料。蒸发速率evaporationrate在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔。溅射速率sputteringrate在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。沉积速率depositionrate在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。镀膜角度coatingangle入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。★真空蒸镀vacuumevaporationcoating同时蒸发simultaneousevaporation用数个蒸发器把各种蒸发材料同时蒸镀到基片上的真空蒸发。蒸发场蒸发evaporationfieldevaporation由蒸发场同时蒸发的材料到基片上进行蒸镀的真空蒸发(此工艺应用于大面积蒸发以获得到理想的膜厚分布)。反应性真空蒸发reactivevacuumevaporation通过与气体反应获得理想化学成分的膜层材料的真空蒸发。蒸发器中的反应性真空蒸发reactivevacuumevaporationinevaporator与蒸发器中各种蒸发材料反应,而获得理想化学成分膜层材料的真空蒸发。直接加热的蒸发directheatingevaporation蒸发材料蒸发所必须的热量是对蒸发材料(在坩埚中或不用坩埚)本身加热的蒸发。感应加热蒸发inducedheatingevaporation蒸发材料通过感应涡流加热的蒸发。电子束蒸发electronbeamevaporation通过电子轰击使蒸发材料加热的蒸发。激光束蒸发laserbeamevaporation通过激光束加热蒸发材料的蒸发。间接加热的蒸发indirectheatingevaporation在加热装置(例如小舟形蒸发器,坩埚,灯丝,加热板,加热棒,螺旋线圈等)中使蒸发材料获得蒸发所必须的热量并通过热传导或热辐射方式传递给蒸发材料的蒸发。闪蒸flashevaportion将极少量的蒸发材料间断地做瞬时的蒸发。第2页共3页第1页共3页编号：时间：2021年x月x日书山有路勤为径，学海无涯苦作舟页码：第2页共3页★真空溅射vacuumsputtering反应性真空溅射reactivevacuumsputtering通过与气体的反应获得理想化学成分的膜层材料的真空溅射。偏压溅射biassputtering在溅射过程中，将偏压施加于基片以及膜层的溅射。直流二级溅射directcurrentdiodesputtering通过二个电极间的直流电压，使气体自持放电并把靶作为阴极的溅射。非对称性交流溅射asymmtricalternatecurrentsputtering通过二个电极间的非对称性交流电压，使气体自持放电并把靶作为吸收较大正离子流的电极。高频二极溅射highfrequencydiodesputtering通过二个电极间的高频电压获得高频放电而使靶极获得负电位的溅射。热阴极直流溅射（三极型溅射）hotcathodedirectcurrentsputtering借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电所产生的离子，由在阳极和阴极（靶）之间所施加的电压加速而轰击靶的溅射。热阴极高频溅射（三极型溅射）hotcathodehighfrequencysputtering借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。离子束溅射ionbeamsputtering利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。辉光放电清洗glowdischargecleaning利用辉光放电原理，使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。物理气相沉积；PVDphysicalvapordeposition在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。化学气相沉积；CVDchemicalvapordeposition一定化学配比的反应气体，在特定激活条件下（通常是一定高的温度），通过气相化学反应生成新的膜层材料沉积到基片上制取膜层的一种方法。磁控溅射magnetronsputtering借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域，来增强电离效率，增加离子密度和能量，因而可在低电...