晶圆的背面研磨工艺会产生应力并传导到晶圆本体上导致晶圆变脆。这种晶圆变脆的效应可以用等离子应力去除工艺来去除。背面研磨带在减薄工艺...
1减薄/抛光(CMP)工艺培训查强200905152工艺目的1工艺原理2减薄原理及设备3研磨、抛光原理及设备4工艺过程检测及常见问题53减薄/抛光(CMP)工...
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ARM9外接晶片讀寫的驗証-以8255為範例外接8255主要目的是透過位址線及資料線做外接晶片讀寫的驗証。ARM9可透過如圖1所示的轉接訊號線擴充其...
第1页共19页编号:时间:2021年x月x日书山有路勤为径,学海无涯苦作舟页码:第1页共19页晶片拉晶技术;低成本、低能耗多晶硅材料及产品产业...
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