1 第七章 抛光加工工艺 一、抛光原理 光学加工中，抛光是精磨以后的一个主要工序。工件在精磨之后，虽然具有一定的光滑和规则的表面形状，但它还不完全透明而且表面形状也不是所要求的，需要经过抛光才能成为所要求的抛光表面。因此抛光的目的即为： ① 去除精磨的破坏层达到规定的外观限度要求。 ② 精修面形，达到图面规定的曲率半径 R 值，满足面本数 NR 要求及光圈局部允差（亚斯）的要求。 玻璃抛光机理对玻璃抛光本质的认识，很早就引起了人们的重视，特别是20 世纪以来，有关的文献发表了很多。但是玻璃的抛光是个十分复杂的过程，所以至今尚未形成一种能说明一切有关抛光现象的统一理论，经过长期的观察和研究，目前，主要有三种学说 1、 机械研削理论： 认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒 对玻璃表面进 行 微 小 切削作 用 的结 果 。但由 于 抛光是用 很细 颗粒 的抛光剂 （ 我 公 司 目前使 用 的抛光粉 粒 度 范 围(0.5um-3um）。所以微 小 切削作 用 可 以在分子 大 小 范 围 内 进 行 。由 于 研磨皿 与 镜 片 表面相当 吻 合 ，因此抛光时 切向 力 很大 ，从而使 玻璃表面凸 凹 微 痕 结 构 被 切削掉 ，逐 渐 形成光滑的表面。 实 验 表明抛光粉 粒 度在一定范 围 时 粒 度越 大 ，研磨效 率高 ； 研磨粉 硬度越 高 ，抛光速 率越 高 （如 氧 化 铈Ce02研磨粉 比 红 粉Fe2O3硬度高 ，前者 比 后者 抛光速 率高 2～ 3 倍 。） 另 外在一定范 围 内 ，增 加压 力 ，提 高 主轴 转 速 ，抛光速 率显 著 提高 ,高 速 抛光即是依 此而发展 起来的。 通 过实 验 测 得 ，抛光掉 的玻璃颗粒 尺 寸 大 约 为1～ 1.2nu。仅 从 2 以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 2、化学学说 认为抛光过程主要是水、研磨剂、研磨皿等与玻璃之间化学作用的结果。 ① 玻璃表面受水的作用，水解反应生成硅酸凝胶层。在抛光过程中，抛光皿和研磨剂随时从玻璃表面凸凹层的硅酸凝胶去除，露出玻璃新的表面，再水解，再去除，往复循环达到抛光效果。 ② 抛光剂的PH 值对研磨抛光影响甚大。 ③ 硝材的化学稳定性与研磨效率有直接关系。 3、表面流动理论： 认为玻璃表面由于高压和相对运动、摩擦生热，致使表面产生塑性流动，凸的部分将凹...
