1 第 1 页共 6 页、选择题
电离后向半导体提供空穴的杂质是(),电离后向半导体提供电子的杂质是()
受主杂质 B
施主杂质 C
在室温下,半导体 Si 中掺入浓度为 10i4cm-3的磷杂质后,半导体中多数载流子是(),多子浓度为(),费米能级的位置();一段时间后,再一次向半导体中掺入浓度为 1
1X1015cm-3的硼杂质,半导体中多数载流子是(),多子浓度为(),费米能级的位置();如果,此时温度从室温升高至 550K,则杂质半导体费米能级的位置()
(已知:室温下,n=1010cm-3;i3
550K 时,n 二 1017cm-3)i电子和空穴A
1014cm-3高于 EiB
1015cm-3H
低于 EiC
1X1015cm-3I
等于 Ei在室温下,对于 n 型硅材料,如果掺杂浓度增加,将导致禁带宽),电子浓度和空穴浓度的乘积 np()n2,功函数00i)
如果有光注入的情况下,电子浓度和空穴浓度的乘积npA
不确定系别'
姓名……密………封………线………以………内………答………题………无………效2 第 3 页共 6 页系别'
姓名……密………封………线………以………内………答………题………无………效2 第 3 页共 6 页系别'
姓名……密………封………线………以………内………答………题………无………效2 第 4 页共 6 页系别'
姓名……密………封………线………以………内………答………题………无………效2 第 6 页共 6 页100%,如果温度大于热力学温度零度时,能量比 E 小的量子态F被电子占据的概率为小于 50%
费米分布函数适用于简并的电子