系别 班次 学号 姓名
………密………封………线………以………内………答………题………无………效…… 第 1 页 共 8页 1 一、选择题
电离后向半导体提供空穴的杂质是( A ),电离后向半导体提供电子的杂质是( B )
受主杂质 B
施主杂质 C
中性杂质 2
在室温下,半导体 Si 中掺入浓度为31410cm 的磷杂质后,半导体中多数载流子是( C ),多子浓度为( D ),费米能级的位置( G );一段时间后,再一次向半导体中掺入浓度为315101
1cm 的硼杂质,半导体中多数载流子是( B ),多子浓度为( E ),费米能级的位置( H );如果,此时温度从室温升高至K550,则杂质半导体费米能级的位置( I )
(已知:室温下,31010cmni;K550时,31710cmni) A
电子和空穴 B
31410cm E
31510cm F
315101
1cm G
高于iE H
低于iE I
等于iE 3
在室温下,对于 n 型硅材料,如果掺杂浓度增加,将导致禁带宽度( B ),电子浓度和空穴浓度的乘积00 pn( D )2in ,功函数( C )
如果有光注入的情况下,电子浓度和空穴浓度的乘积 np( E )2in
不确定 系别 班次 学号 姓名
………密………封………线………以………内………答………题………无………效…… 第 2 页 共 8页 2 4
导带底的电子是( C )
带正电的有效质量为正的粒子 B
带正电的有效质量为负的准粒子 C
带负电的有效质量为正的粒子 D
带负电的有效质量为负的准粒子 5
P 型半导体 MIS 结构中发生少子反型时,表面的导电类型与体材料的类型