一、 选择题 1
如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主
A、本征 B、受主 C、空穴 D、施主 E、电子 2
受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )
电子和空穴 B
电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子
A、正 B、负 C、零 D、准粒子 E、粒子 4
当 Au 掺入 Si 中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当 B 掺入 Si 中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用
A、受主 B、深 C、浅 D、复合中心 E、陷阱 5
MIS 结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )
杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )
变大,变小 ;B
变小,变大;C
变小,变小; D
砷有效的陷阱中心位置(B ) A
靠近禁带中央 B
靠近费米能级 8
在热力学温度零度时,能量比FE 小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比FE 小的量子态被电子占据的概率为( A )
大于 1/2 B
小于 1/2 C
等于 1/2 D
等于 1 E
等于 0 9
如图所示的 P 型半导体 MIS 结构 的 C-V 特性图中,AB 段代表 ( A),CD 段代表( B )
多子积累 B
多子耗尽 C
少子反型 D
平带状态 10