具体内容r 光圈数:红色光圈有几圈，光圈数就几光圈（面象散光圈允差一椭圆、马鞍形、棱形（△N1 表示）2、光圈局部不规则程度一中高、中低、翘边等（△N2 表示）文件名称下摆机研磨工艺制定时间版次第一版作成审核批准一、目的：光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径 R 值，并满足零件光圈数 N 及光圈局部误差的要求。二、抛光机理：认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定范围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速率越高（如氧化铈 CeO 抛光粉比红粉 FeO 硬度高，前者比后者抛光速率高 2〜3 倍）。223另外在一定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得,抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为 1〜1.2um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。二、抛光基本常识：1、光圈的概述：被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时，它们之间形成对称的契形空气间隙，从而产生等厚干涉条纹，在白光照射下，可见到彩色光环，这种彩色环称为光圈，物理学中称牛顿环。光圈的识别：高光圈与低光圈：a. 高光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向外扩散的，即高光圈;b. 低光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向内收缩的，即低光圈;3、光圈数与局部误差的计算方法：a）光圈数的计算方法：N=N 检-N 补光圈数 N,实际光圈数为 N 检，基准补负为 N 补。例：基准补负 2 圈，实际测光圈数为一 4 圈，贝 V：N=N 检一 N 补=4-（-2）=-2 圈b）局部误差计算方法：A、象散光圈：AN1 二 b/a-1B、光圈局部不规划：AN2 二 a/b=0.2/1=0.2规则：0.5 圈 OK高光圈低光圈四、抛光前所需的准备工作：1、配抛光液：用对应的抛光粉配一定浓度的抛光液，一般抛光液的浓度设定为 1.015—1.025（g/cm3），具体根据实际的玻璃情况设定，一般选择原则是软玻璃浓度小些，硬玻璃浓度适当取大一些。大约比例为：磨耗度：70—120（硬）120—170（中等）180（软）以上比重：1.030—1.03...
