半导体相关知识♦本征材料：纯硅 9JO 个 9250000Q+cm• N 型硅：掺入 1V 族元素--磷 P、彳申 As、鲜Sb• P 型硅:掺入 III 族元索一稼 Ga、硼 B• PN 结：POQO©OON半导体元件制造过程可分为•前段(FrontEnd)制程晶圆处理制程(WaferFabrication；简称 WaferFab)、晶圆针测制程(WaferProbe)；•後段(BackEnd)构装(Packaging)、测试制程(InitialTestandFinalTest)晶圆处理制程•晶圆处理制程之主要工作为在矽晶圆上制作电路与电子元件(如电晶体、电容体、逻辑闸等)，为上述各制程中所需技术最复杂资金投入最多的过程，以微处理器(Microprocessor)为例，其所需处理步骤可达数白道，I佰其所需加工机台先进且昂贵，动辄数千万一台，苴所需制造环境为为一温度、湿度与含尘(Particle)均需控制的无尘室(ClemrvRoom),虽然详细的处理程序是随著产品种类与所使用的技术有关；不过其基本处理步骤通常是晶圆先经过适当的清洗(Cleaning)之後，接著进行氧化(Oxidation)及沈积，最後进行微影、蚀刻及离子植入等反覆步骤，以完成晶圆上电路的加工与制作。二、晶圆针测制程•经过 WaferFabZ 制程後，晶圆上即形成一格格的小格，我们称之为晶方或是品粒(Die),在一般情形下，同一片晶圆上皆制作相同的晶片，但是也有可能在同一片晶圆上制作不同规格的产品；这些晶圆必须通过晶片允收测试，晶粒将会一一经过针测(Probe)仪器以测试其电气特性,而不合格的的晶粒将会被标上记号(InkDot),此程序即称之为晶圆针测制程(WaferProbe)。然後晶圆将侬晶粒为单位分割成一粒粒独立的晶粒三、：tc 构装制程• IC 構裝製程(Packaging):利用塑膠或陶瓷包裝晶粒與配線以成積髏電路• 口的：是為了製造出所生產的電路的保護層，避免電路受到機械性刮傷或是高溫破壞。饱和半导体制造工艺分类双极型PMOS 型 NMOS 型 CMOS 型II11■BiMOS_「［TTLJ|I2Lj 乍 CL/CML,半导体制造工艺分类• 一双极型 IC 的基本制造工艺：• A 在元器件间要做电隔离区（PN 结隔离、全介质隔离及 PN 结介质混合隔离）ECL（不掺金）（非饱和型）、TTL/DTL（饱和型）、STTL（饱和型）B 在元器件间自然隔离I2L（饱和型）半导体制造工艺分类•二 MOSIC 的基本制造工艺：根据栅工艺分类• A 铝栅工艺• B 硅栅工艺•其他分类1、（根据沟道）PMOS、NMOS、CMOS2、（根拯负载元件）E/R、E/E、E/D半导体制造工艺分类•三 Bi-CMOS 工艺：A 以 CMOS 工艺为基础P 阱 N 阱B...
