第十二届全国电子束、离子束、光子束学术年会征文通知为发展我国电子束、离子束、光子束技术,由中国电子学会半导体与集成技术分会和生产技术分会联合主办的“第十二届全国电子束、离子束、光子束学术年会”将于2003年的金秋在北京市近郊召开,会议由中国科学院微电子中心和中国科学院电工研究所联合承办
现将学术会议的征文工作通知如下:一、征文范围:1
电子束、离子束光刻及微细加工工艺2
电子束、离子束辐照材料改性3
电子束曝光及相关技术4
半导体离子注入与离子束合成(包括器件和集成电路)5
离子注入及相关技术6
光子束的薄膜淀积、杂质及材料加工工艺7
X-射线光刻(包括掩模)8
分子束外延(MBE)、CBE、MOCVD及其他新外延技术9
等离子体加工技术(包括PECVD、溅射等技术)10
借助电子束、离子束、光子束的测试分析技术11
电子束、离子束、光子束与材料相互作用以及新效应的研究与计算机模拟12
光学光刻(包括相移光刻、远紫外光刻、激光光刻)13
抗蚀剂及干法刻蚀技术14
半导体纳米技术,纳米器件及应用15
电子束、离子束、光子束在半导体材料器件电路及其它领域中的应用16
微机械、微系统研制及应用17
激光技术及其应用18.生物芯片研制及应用19.微电子器件封装技术二、征文要求:1
论文内容应突出近两年来在研究工作中所取得的成果并且没有在国内外公开刊物或其它学术会议上发表过的论文,均可投稿
论文要求以稿件形式挂号邮寄
每一篇论文提交一式二份打印稿(供评审),不接受手写稿件
请自留底稿,无论录用否,均不退稿
4.为保证会议论文集质量,论文格式要求如下:(1)论文题目用2号字,作者姓名,单位、邮编及正文用五号字,字体统一用宋体
版芯尺寸为155225mm2,不加页码
(2)为保证论文集的质量与版面统一,要求论文采用6
0以上版本的WORD软件排版,同时提供软盘或用E-mail将