第1页共43页编号:时间:2021年x月x日书山有路勤为径,学海无涯苦作舟页码:第1页共43页集肤效应在微波频率时,导体的电流密度将不会是平均分布于整个导体内部,而是在表面附近有较大的电流密度,在导体中心部分的电流密度是最小的
我们称这种现象为〝集肤效应〞
〈因为电流密度集中于表面处
〉高频时的导体电流密度分布情形,大致如所示,由表面向中心处的电流密度逐渐减小
在此引进一个临界深度δ〈criticaldepth〉的大小,此深度的电流密度大小恰好为表面电流密度大小的1/e倍:
(1)其中,f为频率,μ为导磁率〈H/m〉,ρ为电阻率〈mho/m〉
由(1)可知,当频率愈高时,临界深度将会愈小,结果造成等效阻值上升
因此在高频时,电阻大小随着频率而变的情形,就必须加以考虑进去
IC制作流程整个IC制作的流程大概可分为电路设计〈ICdesign〉、晶圆加工〈waferfabrication〉、第2页共43页第1页共43页编号:时间:2021年x月x日书山有路勤为径,学海无涯苦作舟页码:第2页共43页封装〈packaging〉及测试〈test〉四大部份,其关系如下图所示:当我们决定好对一个IC所要求的功能及其工作规格后,便开始着手电路设计
电路设计的主要目的在产生布局图〈layout〉,它能定义出晶圆加工制程中所需要的各层图案〈pattern〉
藉由布局图,可做成晶圆加工制程中所需要的各道光罩〈maskorreticle〉
接下来的晶圆加工制程,可以说是整个IC制作流程中最复杂、资金及技术最密集的一部份
这个部份就是要将上一个设计程序所设计出来的电路及电子组件,能在晶圆上加以实现
而电路上所用到的电子组件〈晶体管、电阻、电容、电感
〉及其间的联机〈interconnection〉,则必须靠各单元制程〈氧化、黄光微影、薄膜沉积、蚀刻、参杂
〉间的反复配合才能完成