实验2PN结二极管特性仿真1、实验内容(1)PN结穿通二极管正向I-V特性、反向击穿特性、反向恢复特性等仿真
(2)结构和参数:PN结穿通二极管的结构如图1所示,两端高掺杂,n-为耐压层,低掺杂,具体参数:器件宽度4μm,器件长度20μm,耐压层厚度16μm,p+区厚度2μm,n+区厚度2μm
掺杂浓度:p+区浓度为1×1019cm-3,n+区浓度为1×1019cm-3,耐压层参考浓度为5×1015cm-3
图1普通耐压层功率二极管结构2、实验要求(1)掌握器件工艺仿真和电气性能仿真程序的设计(2)掌握普通耐压层击穿电压与耐压层厚度、浓度的关系
3、实验过程#启动Athenagoathena#器件结构网格划分;linexloc=0
0spac=0
4linexloc=4
0spac=0
4lineyloc=0
0spac=0
5lineyloc=2
0spac=0
1lineyloc=10spac=0
5lineyloc=18spac=0
1lineyloc=20spac=0
5#初始化Si衬底;initsiliconc
phos=5e15orientation=100two
d#沉积铝;depositalumthick=1
1div=10#电极设置electrodename=anodex=1electrodename=cathodebackside#输出结构图structureoutf=cb0
strtonyplotcb0
str#启动Atlasgoatlas#结构描述0Wp+n-n+dopingp
typeconc=1e20x
min=0y
0uniformdopingn
typeconc=1e20x
min=18y
max=20
0uniform#选择模型和参数modelscvtsrh