基本薄膜材料汇总VIP免费

.基本薄膜材料黃中波摘抄總結名稱：釔（ Y）三氧化二釔（ Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在 500nm 時折射率在約為1?8。用作鋁保護膜其極受歡迎，特別相對於 8000nm— 12000nm 區域高入射角而言。可用作眼鏡保護膜，且 24 小時暴露在濕氣中。一般為顆粒狀和片狀。透 光 範圍（ nm）N （500nm）蒸發溫度（℃）蒸發源應用蒸 汽 成份250-8000 1?79 2300-2500 電子槍防反膜名稱：二氧化鈰（ CeO2 使用高密度的鎢舟皿（較早使用）蒸發，在200℃的基板上蒸著二氧化鈰，得到一個約為2?2 的折射率，在大約3000nm 有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發生顯著變化，在300℃基板上 500nm 區域 n =2?45，在波長短過 400nm 時有吸收，傳統方法蒸發缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n =2?3（550nm）的低吸收性薄膜。一般為顆粒狀。還可用於增透膜和濾光片等。由于其热辐射较少 , 在 PMMA上镀膜可以优先该材料做为高折射率材料. 透光範圍（nm）N （500nm）蒸 發 溫度（℃）蒸發源應用雜 氣 排放量400-16000 2?35 約 2000 電子槍增透膜多名稱：氧化鎂（ MgO）必須使用電子槍蒸發因該材料昇華，堅硬耐久且有良好的紫外線（UV ）穿透性。 250nm n =1 ?86， 190nm n =2 ?06， 166nm 時K 值為 0?1，n =2?65，可能用作紫外線薄膜材料。Mg/MgF2 膜堆從 200nm— 400nm 區域透過性良好，但膜層被限制在60 層以內（由於膜應力）500nm 時環境溫度基板上得到n =1 ?70，而在300℃基板上得到n =1 ?74。由於大氣 CO2 的干擾， MgO 暴露表面形成一模糊的淺藍的散射表層，可成功使用傳統的MHL 折射率 3 層 AR 膜（ MgO/CeO2/MgF2 ）。名稱：硫化鋅（ ZnS）折射率 2?35，400— 13000 的透光範圍，、具有良好的應力和良好的環境耐久性， ZnS 在高溫蒸著時極易昇華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層，因此需要徹底清爐並且在最高溫度下烘乾，花數小時才能把鋅的不良效果消除。Hass等人稱紫外線（ UV ）對 ZnS 有較大影響，由於紫外線在大氣中導致 15— 20nm 厚的硫化鋅膜層完全轉變成氧化鋅（ZnO）。透光範圍（nm）N （550nm）蒸發溫度（℃）蒸發源應用方式400-14000 2?45 1000-1100 電 子 槍鉬鉭舟昇華應用：分光膜，泠光膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，紅外膜,据国内光学厂资深老工程师讲,常年使用用ZNS 的机器基本上五年后真空腔被腐蚀...