PCB 槽液分析 一、铜粒子分析: 1、取槽液 1ml 于 250ml 的锥形瓶中,加入 150ml 的纯水,加入 3-5mL 浓氨水(此时为蓝色),静置 5 分钟至反应完全,加入 5 到 10 滴 PAN 指示剂,用 0
1mol/L 的 EDTA 标准溶液滴定至溶液呈绿色为终点 2、计算:Cu2+(g/L)=VEDTA×NEDTA×63
54/样品取样数 ml 3、分析频率:1 次/天 4、槽液维护:当 Cu2+>20g/L 时换槽或稀释药水
二、微蚀缸之微蚀量的分析: 1、剪切“10cm×10cm”铜片一片避免污染,用分析天平称铜片重量(天平应精确到 0
让铜片在清洗线设备上运行一次
将铜片冷却后称重(避免指印或其它污染)
2、计算:微蚀率=(铜片处理前重量-铜片处理后重量)/0
000892×2×铜片面积 3、分析频率:1 次/天 三、微蚀缸之 H2O2 的分析: 1、取 1ml 槽液于 250ml 锥形瓶中,加入 50ml 的 DI 水,加入 10%的 H2SO410mL,加入 8 到10 滴亚铁试剂溶液,用 0
1N 的硫酸铈铵标准溶液滴定至蓝色
2、计算:H2O2(﹪)=V 硫酸铈铵×0
36 3、控制范围:4-6 ﹪ 最佳值:5﹪ 分析频率:1 次/天 四、酸洗缸之 H2SO4 的分析: 1、取 1ml 槽液,放置于 250ml 烧杯中,加入 50ml 纯水,加 2-3 滴甲基橙指示剂 ,摇匀,以0
5N 氢氧化钠溶液滴定(边摇动锥形瓶)至溶液由红色转为黄色为止; 2、计算:H2SO4%=V×1
33 3、控制范围:3-5% 最佳值:4% 分析频率:1 次/天 4、药液添加 H2SO4(L)=(标准值—分析值)×V÷100 DES 线药水分析规范 一、显影之 Na2CO3 的分析: 1、移取槽液 5ml 于 250ml 锥形瓶中,加入 50