URE—2000/25 型深度光刻机说明书 中国科学院光电技术研究所 目 录 一、 整机系统描述 二、 性能指标和设备参数 三、 系统工作原理及结构 1 . 工作原理 2 . 机械结构图 3 . 电控系统框图 4 . 关键部件结构图 5 . 气路图 四、 电器接线图及接线表 五、 环境要求 六、 安装要求—场地大小、电源要求等 七、 面板及仪表说明 八、 操作步骤—工作过程 一、 整机系统描述 URE-2000/25 型深度光刻机，是在 URE-2000A 和 URE-2000B 基础上开发成功的，其主要特点是： 灯源采用 200W 交流高压汞灯，曝光波长使用 365nm，曝光面积100mm（可扩展为 150mm150mm）。曝光系统采用积木错位蝇眼透镜实现均匀照明和平滑衍射效应。 掩模面的最大照度可达 10mW/cm 2 (用 365nm 探头测量，曝光面积100mm)，照度可通过曝光系统内部的可变光栏进行调节。 对准采用双目双视场对准显微镜（可添加 CCD 对准系统），对准显微镜的有三对目镜和三对物镜可以互换，组合后最大倍数为 375 倍。对准物镜轴距可在 20mm-63mm 之间变化。在目镜中可单独观察到一个视场的像，也可同时观测到两个视场的像。 机器由单片机系统通过主机上控制面板进行操作（如带CCD 的对准系统则通过主计算机进行操作）。 工件台可带动掩模样片一起作X、Y 整体运动（关掉工件台真空），也可 X、Y 整体运动锁紧（关掉工件台真空）。样片相对于掩模可作X、Y、Z、ZYX、、六维运动，其中 X、Y、Z、Z 通过手 轮 调节，YX 、分 别 通过球气 浮 调节。共 有 2.5 英 寸 、3 英 寸 、4 英 寸 、5 英 寸 四 种 掩模吸 盘 。 二 、 性 能 指 标 和设 备 参 数 曝光面积：75m m ×75mm （可扩展为 φ 100mm） 分 辨 力 ：1－ 1.2 微米 （胶 厚 2 微米 的正 胶 ） 最大胶 厚 300 微米 （SU8 胶 ） 套 刻精 度：±0.6 微米 掩膜 样片整体运动范 围 ：X：15mm，Y：15mm 掩膜 尺 寸 ：2.5 寸 ，3 寸 ，4 寸 ，（可扩展至 5 寸 ） 样片尺 寸 ：直 径 φ 15mm － φ100mm 厚 度 0.1mm – 6mm 照明均匀性：±3％ （75mm× 75mm 范围） 掩膜相对于样片运动行程：X：± 3mm；Y：± 3mm；θ：± 6 度） 汞灯功率：200W（直流） 曝光方式 定时（可倒计时曝光，定时范围0.1s-9...
