关于Tempress设备设备的状况决定了制程的实际进行情况,作为核心制造工序扩散的主要承担者的Tempress设备的重要性不言而喻
对设备的的了解是异常排查、工艺调整和优化制程的基础,现将与工艺相关的Tempress设备的重要内容总结如下:一、Tempress设备调试流程:1
检查设备状况是否完整和正确:如气路连接是否正确,源瓶、恒温槽状态是否正常,排风是否正常等
运行Profile工艺:用以对应Paddle和Spike温度
饱和:可以运行30次P156程序,让石英管和舟对磷的吸收达到饱和状态
调节方块电阻:插一舟假片,其中选择7个位置放未扩散的硅片,运行饱和工艺,结束后测量方块电阻并进行温度调节,使方块电阻达到要求
效率跟踪:在方块电阻正常以后,试做三管并进行效率跟踪
交付使用:在试产片效率达到要求以后,即可交付生产使用了
二、基本构造:1、主要部件(mainparts):1
LoadStation装载区2
Furnace炉子3
GasCabinet气体装置4
MainPowerCabinet主电源装置5
DPC(DigitalProcessController)数字程序控制器6
DTC(DigitalTemperatureController)数字温度控制器7
ETC(ExcessTemperatureController)扩展温度控制器8
TorchScreen触摸屏9
TSC-2电脑连接2、气路:在Tempress炉管尾部,有三条气管,分别为进气管,排气管,以及TC管
各气体,如大N2,POCL3以及O2在经过流量计,阀门等混合后通过进气管流入炉内;在排气管上另有一个氮气补足管,此管通过尾气管向管内补充氮气,起到控制炉内压力的作用;TC管内有温度传感器,用于测量炉内的温度,对扩散炉的Paddle控温方式的实现以及Profile过程有着关键作用