半導體廠製程排氣系統魏振翼, 彭淑惠, 胡石政摘要新竹新學園區的設立，帶動了台灣的經濟發展，但也造成了環境方面的污染，半導體業在製造過程中，無可避免地必須使用不同種類的化學物質，為了提高產品的良率，必須精密控制產品所接觸之環境的空氣品質。而製程排氣系統（Exhaust System），雖非製程生產所需設備，但卻是為生產區域營造一個可供生產人員在安全無虞情況下的工作環境，因此製程排氣系統，從廢氣物質相容性至排放氣體輪送，以至於各種污染處理設備，皆需經嚴格且縝密選擇，這些均是環環相扣缺一不可。本文研究的目的乃是希望藉由針對廢氣種類及化學性質之源頭分析，進而分類，以期能從目前園區常用系統中篩選出既安全又環保的系統。關鍵詞：半導體工業、揮發性有機廢氣、洗滌塔1． 前言半導體工業，雖已有四十年的發展，卻是在近十年內快速發展，成長之速非常驚人，且電子產品已成為人們生活中不可缺少的必需品，各個先進國家無不努力於研究發展，以期在工業能力及市場佔有方面能取得優勢。但在半導體製程生產既可符合製程生產需求，又能兼顧工業安全，同時更可為環保盡一份心力時，所排放之廢氣，除了對人體會有安全性之威脅外，更會造成環保空氣污染。有鑑於此，在投入半導體工業建廠的同時，希望能對製程排氣之處理原理，環保相關法規甚至各個系統處理所使用之管材，做全面通盤的了解。2． 製程排氣系統之分類：半導體製程流程中，使用機台種類相當煩多，各種排放物質種類更是不勝枚舉，若要針對單一種類設置單獨排放處理設施，不僅有其設置上的因難，而且施工上及日後維修保養更屬不易，因而，目前半導體廠房中，依據排放之特性大致上區分為酸／毒性（Acid Exhaust）、鹼性（Alkali Exhaust）、有機溶劑（SolventExhaust）及一般排氣（General Exhaust）四個系統：(1 酸、鹼性廢氣：其主要來源為化學清洗工作站，清洗晶片時所產生之揮發性氣體，此氣體部分含有濃煙，部分則對呼吸系統有刺激性作用有害人體，故必須經過Central Scrubber 做水洗中和處理後，再排入大氣。(2 毒 性 廢 氣：其主要來源為化學氣相沈積（CVD ）乾蝕刻機、擴散、離子植入機及磊晶等製程時所產生，由於以上之製程均使用大量的毒性氣體，因此在其機台本身即設置有 Local Scrubber 作先行處理，再送至 Central Scrubber 做水洗中和處理後，再排入大氣。(3 有機溶劑廢氣：目前半導體製造業大多以活性碳吸附塔或填充式洗滌塔處理廠內排之...
