第三章自由基聚合新引发体系

11《现代高分子合成化学》第三章自由基聚合新引发体系(Novel initiation system of free radical polymerization)2《现代高分子合成化学》第一部分含胺氧化还原引发体系31. 自由基聚合－氧化还原体系（1）室温或较低温度产生自由基。1）油溶性氧化－还原体系：氧化剂：氢过氧化物、过氧化二烷基、过氧化二酰基；还原剂：叔胺、硫醇、有机金属化合物。如：BPO-芳香叔胺体系：BPO-N,N-二甲基苯胺发生分子间电荷转移，使分解温度大大降低。BPON(CH3)2COCOO-N+OCH3CH3..+++42）水溶性：氧化剂：过氧化氢、过硫酸盐、氢过氧化物等；还原剂：无机还原剂（Fe2+、Cu2+、NaHSO3等）和有机还原剂（醇、胺、草酸、葡萄糖等）。Fe2+/H2O2；Fe2+/ROOH；Fe2+/K2S2O8；Ce4+/RCH2OHFe2+ + H2O2 = HO · + OH- + Fe3+Fe2+ + ROOH = RO ·+ OH- + Fe3+Fe2+ + K2S2O8 = SO4- + SO42- + Fe3+Ce4+ + RCH2OH = R-CH-OH + Ce3+ + H+··1. 自由基聚合－氧化还原体系（2）5¾ 有机过氧化物＋芳叔胺；BPO＋N,N - 二甲基苯胺（DMA）, BPO＋N,N - 二甲基-对甲苯胺（DMT）。¾ 有机过氧化氢＋芳叔胺；异丙苯过氧化氢（CHP）＋DMT¾ 水溶性过硫酸盐＋脂肪胺2. 含胺氧化还原体系6有机过氧化物＋芳叔胺z BPO， LPO（过氧化十二酰）＋N,N - 二甲基苯胺（DMA）， N,N - 二甲基-对甲苯胺（DMT）。BPO > LPO； DMT > DMA27有机过氧化物＋芳叔胺z BPO＋N,N - 二（2-羟烷基）对甲苯胺N-2-羟乙基-N-甲基苯胺（HMA），N,N - 二（2-羟乙基）对甲苯胺（DHET），等。8有机过氧化物＋芳叔胺z BPO＋杂环叔胺体系BPO＋N-烷基（甲基,乙基）吗啉、含咪唑化合物－MMA聚合BPO＋含有环叔胺的药物：BPO＋水杨酸毒豆碱(Phy sostigmine)、利福平(Rifampin)奋乃静等－MMA、HEMA（甲基丙烯酸-2-羟乙酯）、NVP （N-乙烯基吡咯烷酮）聚合；药物包埋而后释放。9有机过氧化物＋芳叔胺z BPO＋杂环叔胺体系抗生素：利福平(Rifampin)抗肿瘤：噻替哌10有机过氧化物＋芳叔胺BPO＋奋乃静－MMA、HEMA（甲基丙烯酸-2-羟乙酯）药物包埋而后释放。奋乃静（PERP）11有机过氧化物＋芳叔胺BPO＋奋乃静－MMA（反应动力学：氧化还原体系）12BPO＋奋乃静－MMA、HEMA药物包埋而后释放。313有机过氧化物＋芳叔胺z 过氧化物＋可聚合胺体系特点：氨基可与过氧化物起氧化还原反应而引发聚合，同时可使碳碳双键引入高分子主链。BPO＋芳胺结构，LPO＋脂肪胺结...