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第三章自由基聚合新引发体系

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11《现代高分子合成化学》第三章自由基聚合新引发体系(Novel initiation system of free radical polymerization)2《现代高分子合成化学》第一部分含胺氧化还原引发体系31. 自由基聚合-氧化还原体系(1)室温或较低温度产生自由基。1)油溶性氧化-还原体系:氧化剂:氢过氧化物、过氧化二烷基、过氧化二酰基;还原剂:叔胺、硫醇、有机金属化合物。如:BPO-芳香叔胺体系:BPO-N,N-二甲基苯胺发生分子间电荷转移,使分解温度大大降低。BPON(CH3)2COCOO-N+OCH3CH3..+++42)水溶性:氧化剂:过氧化氢、过硫酸盐、氢过氧化物等;还原剂:无机还原剂(Fe2+、Cu2+、NaHSO3等)和有机还原剂(醇、胺、草酸、葡萄糖等)。Fe2+/H2O2;Fe2+/ROOH;Fe2+/K2S2O8;Ce4+/RCH2OHFe2+ + H2O2 = HO · + OH- + Fe3+Fe2+ + ROOH = RO ·+ OH- + Fe3+Fe2+ + K2S2O8 = SO4- + SO42- + Fe3+Ce4+ + RCH2OH = R-CH-OH + Ce3+ + H+··1. 自由基聚合-氧化还原体系(2)5¾ 有机过氧化物+芳叔胺;BPO+N,N - 二甲基苯胺(DMA), BPO+N,N - 二甲基-对甲苯胺(DMT)。¾ 有机过氧化氢+芳叔胺;异丙苯过氧化氢(CHP)+DMT¾ 水溶性过硫酸盐+脂肪胺2. 含胺氧化还原体系6有机过氧化物+芳叔胺z BPO, LPO(过氧化十二酰)+N,N - 二甲基苯胺(DMA), N,N - 二甲基-对甲苯胺(DMT)。BPO > LPO; DMT > DMA27有机过氧化物+芳叔胺z BPO+N,N - 二(2-羟烷基)对甲苯胺N-2-羟乙基-N-甲基苯胺(HMA),N,N - 二(2-羟乙基)对甲苯胺(DHET),等。8有机过氧化物+芳叔胺z BPO+杂环叔胺体系BPO+N-烷基(甲基,乙基)吗啉、含咪唑化合物-MMA聚合BPO+含有环叔胺的药物:BPO+水杨酸毒豆碱(Phy sostigmine)、利福平(Rifampin)奋乃静等-MMA、HEMA(甲基丙烯酸-2-羟乙酯)、NVP (N-乙烯基吡咯烷酮)聚合;药物包埋而后释放。9有机过氧化物+芳叔胺z BPO+杂环叔胺体系抗生素:利福平(Rifampin)抗肿瘤:噻替哌10有机过氧化物+芳叔胺BPO+奋乃静-MMA、HEMA(甲基丙烯酸-2-羟乙酯)药物包埋而后释放。奋乃静(PERP)11有机过氧化物+芳叔胺BPO+奋乃静-MMA(反应动力学:氧化还原体系)12BPO+奋乃静-MMA、HEMA药物包埋而后释放。313有机过氧化物+芳叔胺z 过氧化物+可聚合胺体系特点:氨基可与过氧化物起氧化还原反应而引发聚合,同时可使碳碳双键引入高分子主链。BPO+芳胺结构,LPO+脂肪胺结...

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