半导体行业污染物排放标准

上2007-02-01 实施DB31方标准DB31/374—2006半导体行业污染物排放标准Thedischargestandardsofpollutantsforsemiconductorindustiy（发布稿）2006-XX-XX 发布上海市环境保护局君希上海市质量技术监督局友布DB31/374—2006I目次DB31/374—2006IIDB31/374—20061半导体行业污染物排放标准1 范围本标准规定了半导体企业的水污染物和人气污染物排放标准值.本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、人气污染物排放管理，以及半导体企业建设项目环境影响评价、建设项目坏境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。2 规范性引用文件卜列标准和本标准表 5、表 6 所列分析方法标准及规范所含的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款，与本标准同效。DB31/374—20062DB31/374—20063排放 II 采样，其最高允许排放浓度应达到本标准要求。4。1。3.U2 第二类污染物，在排放单位排放 II 采样，其最高允许排放浓度应达到本标准要求。4。1。3。2 本标准对氟化物、悬浮物（SS）、生化需氧量（BODs）.化学需氧量（C0%）、氨氮、总有机碳（TOO6 项污染物均规定了以口均值计的最高允许排放浓度和以瞬时值计的最高允许排放浓度两项指标，这 6项污染物的排放应同时遵守上述两项指标。其他污染物的最高允许排放浓度以口均值计。DB31/374—200644o1.4 标准值半导体企业的水污染物排放执行表 1 和表 2 的规定.表 1 第一类污染物最高允许排放浓度（日均值）单位：mg/L序号污染物A 标准B 标准1总镉（按 Cd 计）0.010.12总絡（按 Cr 计）0o150c53六价珞（按 Cr“计）0o050c14总呻（按 As 计）0o050.20.3（砂化缘工艺）5总铅（按 Pb 计）0c11.06总線（按 Ni 计）0c10.57总银（按 Ag 计）0c10.1表 2 第二类污染物最高允许排放浓度单位:mg/L（pH 值除外）序号污染物特殊保护水域标准一级标准二级标准三级标准1氟化物（按 F 计）8(10-4)10(13)10(13)202总铜（按 Cu 计）0.20.5113硫化物（按 S 计）0c51114总亂化物（按 Cf 计〉0.20。20o20o55PH6〜96~96〜9—6悬浮物（SS）50(65)70(91)100(130)—7生化需氧呈（BODJ15(20)20(26)30(39)—8化学需氧呈（C0%）60(78)80(104)100(130)—9氨氮（NH 厂 N）8(10.5)10(13)15(19.5)—10总有机碳（TOC）18(23)20(26)30(39)—注：表中括号内的标准限值为瞬时值：无括号的标准限值，除 pH 值外，其余均为日均值-4.2 大气污染物排放标准4o2o1 标准体系本标准设置卜•列三项...