半导体制造专业术语

微 电 子 制 造 专 业 术 语 1 Active Area 主 动 区（ 工 作 区 ） 主 动 晶 体 管（ ACTIVE TRANSISTOR）被 制 造 的 区 域 即 所 谓 的 主 动 区（ ACTIVE AREA） 。 在 标 准 之 MOS 制 造 过 程 中 ACTIVE AREA 是 由 一 层 氮 化 硅 光 罩 即 等 接 氮 化 硅 蚀 刻 之 后 的 局 部 场 区氧 化 所 形 成 的 ， 而 由 于 利 用 到 局 部 场 氧 化 之 步 骤 ， 所 以ACTIVE AREA 会 受 到 鸟 嘴 （ BIRD’S BEAK） 之 影 响而 比 原 先 之 氮 化 硅 光 罩 所 定 义 的 区 域 来 的 小 ，以 长 0.6UM 之 场 区 氧 化 而 言 ，大 概 会 有 0.5UM 之 BIRD’S BEAK存 在 ， 也 就 是 说 ACTIVE AREA 比 原 在 之 氮 化 硅 光 罩 所 定 义 的 区 域 小0.5UM。 2 ACTONE 丙 酮 1. 丙 酮 是 有 机 溶 剂 的 一 种 ， 分 子 式 为 CH3COCH3。 2. 性 质 为 无 色 ， 具 刺 激 性 及 薄 荷臭 味 之 液 体 。 3. 在 FAB 内 之 用 途 ， 主 要 在 于 黄 光 室 内 正 光 阻 之 清 洗 、 擦 拭 。 4. 对 神 经 中 枢 具 中 度 麻 醉 性 ，对 皮 肤 黏 膜具 轻微 毒性 ， 长 期接 触会 引起皮 肤 炎， 吸入过 量之 丙 酮 蒸汽会 刺 激 鼻、 眼结膜及 咽喉黏 膜， 甚至引起头痛、 恶心、 呕吐、 目眩、 意识不明等 。 5. 允许浓度 1000PPM。 3 ADI 显影 后 检查 1.定 义 ：After Developing Inspection 之 缩写2.目的 ：检查黄 光 室 制 程 ；光 阻 覆盖→对 准 →曝光 →显影 。 发现缺点后 ， 如覆盖不良、 显影 不良…等 即 予修改， 以 维护产品良率、 品质 。 3.方法：利 用 目检、 显微 镜为 之 。 4 AEI 蚀 刻 后 检查 1. 定 义 ：AEI 即 After Etching Inspection， 在 蚀 刻 制 程 光 阻 去除前及 光 阻 去除后 ，分 别对 产品实施全检或抽样检查。 2.目的 ：2-1 提高产品良率， 避免不良品外流。 2-2 达到 品质 的 一 致性 和制 程 之 重复性 。 2-3 显示制 程 能力之 指针 2-4 阻 止异常扩大 ， 节省成 本 3.通常 AEI 检查出来 之 不良品...