单晶硅(其它典型半导体)的晶体结构建模与能带计算注:本教程以Si为例进行教学,学生可计算MaterialsStudio库文件中的各类半导体
一、实验目的1、了解单晶硅的结构对称性与布里渊区结构特征;2、了解材料的能带结构的意义和应用;3、掌握MaterialsStudio建立单晶硅晶体结构的过程;4、掌握MaterialsStudio计算单晶硅能带结构的方法
二、实验原理概述1、能带理论简介能带理论是20世纪初期开始,在量子力学的方法确立以后,逐渐发展起来的一种研究固体内部电子状态和运动的近似理论
它曾经定性地阐明了晶体中电子运动的普遍特点,并进而说明了导体与绝缘体、半导体的区别所在,了解材料的能带结构是研究各种材料的物理性能的基础
能带理论的基本出发点是认为固体中的电子不再是完全被束缚在某个原子周围,而是可以在整个固体中运动的,称之为共有化电子
但电子在运动过程中并也不像自由电子那样,完全不受任何力的作用,电子在运动过程中受到晶格原子势场和其它电子的相互作用晶体中电子所能具有的能量范围,在物理学中往往形象化地用一条条水平横线表示电子的各个能量值
能量愈大,线的位置愈高
孤立原子的电子能级是分立和狭窄的
当原子相互靠近时,其电子波函数相互重叠
由于不同原子的电子之间,不同电子与原子核之间的相互作用,原先孤立原子的单一电子能级会分裂为不同能量的能级
能级的分裂随着原子间距的减小而增加
如图1所示,如果N个原子相互靠近,单一电子能级会分裂为N个新能级,当这样的能级很多,达到晶体包含的原子数目时,一定能量范围内的许多能级(彼此相隔很近)形成一条带,称为能带
各种晶体能带数目及其宽度等都不相同
相邻两能带间的能量范围称为“带隙”或“禁带”
晶体中电子不能具有这种能量
完全被电子占据的能带称“满带”,满带中的电子不会导电
完全未被占据的称“空带”
部分被占据的称“导带”,导带中的电子