单晶硅(其它典型半导体)的晶体结构建模与能带计算注:本教程以Si为例进行教学，学生可计算MaterialsStudio库文件中的各类半导体。一、实验目的1、了解单晶硅的结构对称性与布里渊区结构特征；2、了解材料的能带结构的意义和应用；3、掌握MaterialsStudio建立单晶硅晶体结构的过程；4、掌握MaterialsStudio计算单晶硅能带结构的方法。二、实验原理概述1、能带理论简介能带理论是20世纪初期开始，在量子力学的方法确立以后，逐渐发展起来的一种研究固体内部电子状态和运动的近似理论。它曾经定性地阐明了晶体中电子运动的普遍特点，并进而说明了导体与绝缘体、半导体的区别所在，了解材料的能带结构是研究各种材料的物理性能的基础。能带理论的基本出发点是认为固体中的电子不再是完全被束缚在某个原子周围，而是可以在整个固体中运动的，称之为共有化电子。但电子在运动过程中并也不像自由电子那样，完全不受任何力的作用，电子在运动过程中受到晶格原子势场和其它电子的相互作用晶体中电子所能具有的能量范围，在物理学中往往形象化地用一条条水平横线表示电子的各个能量值。能量愈大，线的位置愈高。孤立原子的电子能级是分立和狭窄的。当原子相互靠近时，其电子波函数相互重叠。由于不同原子的电子之间，不同电子与原子核之间的相互作用，原先孤立原子的单一电子能级会分裂为不同能量的能级。能级的分裂随着原子间距的减小而增加。如图1所示，如果N个原子相互靠近，单一电子能级会分裂为N个新能级，当这样的能级很多，达到晶体包含的原子数目时，一定能量范围内的许多能级（彼此相隔很近）形成一条带，称为能带。各种晶体能带数目及其宽度等都不相同。相邻两能带间的能量范围称为“带隙”或“禁带”。晶体中电子不能具有这种能量。完全被电子占据的能带称“满带”，满带中的电子不会导电。完全未被占据的称“空带”。部分被占据的称“导带”，导带中的电子能够导电。价电子所占据能带称“价带”。能带理论最突出的成就是解释了固体材料的导电性能。材料的导电性是由导带中含有的电子数量决定。当电子从价带获得能量而跳跃至导带时，电子就可以在带间任意移动而导电。图2是不同导电性材料的典型能带结构示意图。导体材料，常见的是金属，因为其导带与价带之间的非常小，在室温下，电子很容易获得能量而跳跃至导带而导电；而绝缘材料则因为能隙很大（通常大于9电子伏特），电子很难跳跃至导带，所以无法导电；一般半导体材料的能隙约为1至2电子伏特，介于导体和绝缘体之间。半导体很容易因其中有杂质或受外界影响（如光照，升温等），使价带中的电子数目减少，或使空带中出现一些电子而成为导带，因而也能导电。图1原子的能级分裂成能带图2固体材料的能带结构2、能带结构与密度泛函理论简介由Bloch定理，当势场V(r)具有晶格周期时，单电子的波动方程的解ψn具有如下性质:，其中k是波矢，由于周期性边界条件的限制，k在倒易空间取不连续值。上述波动方程的本征值En也依赖于k，即En=En(k)。En(k)对每个n是一个对k准连续的、可区分(非简并情况)的函数，称为能带。所有的能带称为能带结构。由能带的对称性，有En(k+Gm)=En(k)。因此求En(k)函数时，只需求出简约布里渊区的一部分区域内的k所对应的En(k)即可得到整个k空间(倒易空间)的En(k)函数。由于三维晶体的波矢k也是三维的，图示En(k)需要四维空间，因此，一般使波矢k沿选定的直线方向取值，画出二维的En(k)图。所选定的直线方向一般是晶体倒易点阵的高对称方向，如立方晶体倒易点阵的<100>方向、<110>方向和<111>方向。由于固体材料体系较为复杂，在量子力学方法中，直接求解体系的薛定锷方程通常非常困难。对于多粒子系统的电子能级的计算必须采用一些近似和简化。所采用的近似主要有：(1)绝热(Born-Oppenheimer)近似，将原子核的运动和电子的运动分开；(2)单电子(Hartree-Fock)近似，将多电子问题转化为单电子问题。密度泛函理论是一种研究多电子体系电子结构的近似方法，是目前求解晶体中单电子问题的最精确的理论。密度泛函理论的主要思想就是用电子密度取代波函数及为研究的基本量。密度泛函理论的基础是Hohenberg-Kohn定理:定...
