实验四石膏牙、离体牙Ⅲ、Ⅴ类洞形预备Ⅲ、Ⅴ类洞定义Ⅲ类洞定义前牙邻面未累及切角的龋损所备成的窝洞。（切牙和尖牙的邻面洞、邻舌面洞、邻唇面洞）Ⅴ类洞定义所有牙的颊（唇）舌面颈1/3处的龋损所备成的洞。（前牙和后牙颊舌面的颈1/3洞）目的和要求掌握G.V.BlackⅢ、Ⅴ类洞形特点和制备原则。掌握Ⅲ类洞邻面和舌面洞设计。掌握Ⅴ类洞外形设计和洞底特点。实验内容1.在石膏制上颌中切牙邻舌面雕刻标准Ⅲ类洞形2.在离体上颌中切牙邻舌面制备标准Ⅲ类洞形。3.在石膏制上颌中切牙唇面雕刻标准Ⅴ类洞形4.在离体上颌中切牙唇面制备标准Ⅴ类洞形。实验器材Ⅲ、Ⅴ类洞模型石膏模型窝洞制备的离体牙标本口腔综合实习台石膏制上颌中切牙离体上颌中切牙铅笔，雕刻刀，小尺，各型钻针，探针前牙解剖结构（上颌中切牙为例）唇面：颈缘为弧形颈嵴较圆突近中缘与切缘较直远中缘略突近中切角近似直角远中切角较圆钝舌面：中央凹陷为舌窝颈部为舌面隆突近中边缘嵴远中边缘嵴切嵴窝洞的命名洞壁：侧壁：与牙面垂直的洞壁。以所在牙面命名（颊壁、龈壁）。髓壁：与洞侧壁垂直，位于洞底覆盖牙髓。轴壁：与牙长轴平行的髓壁。双面洞：合面部分：与合面洞相似，与邻面相交的部分开放邻面部分：侧壁、轴壁、线角、点角轴髓线角：合面髓壁与邻面轴壁Ⅲ类洞龈壁髓壁轴壁切壁唇壁鸠尾峡鸠尾边缘嵴轴髓线角设计要点Ⅲ类洞：邻面洞：呈唇向略大于舌向的梯形唇壁：与唇面平行轴壁：与邻面平行切壁、龈壁：略向舌侧聚拢唇壁、切壁、龈壁与轴壁垂直，点线角清楚舌面洞：切壁：不超过舌面中1/3龈壁：不损伤舌隆突鸠尾：位于舌隆突切方，不过舌侧中线，深1mm鸠尾峡：位于边缘嵴内，宽度为邻面切龈向宽度的1/3洞底：达釉牙本质下0.5mm洞深：唇壁为1mm龈壁远中壁切壁近中壁髓壁Ⅴ类洞设计要点Ⅴ类洞：洞形：半圆形，位于牙齿颊面（舌面）的龈1/3处切壁：止于牙面颈1/3与中1/3交界处龈壁：近龈缘近远中壁：止于轴面角处髓壁：为一弧面，与牙齿唇（颊）舌面弧度一致洞壁：与洞底垂直，线角清楚洞底达釉牙本质下0.5mm洞深：约为1-1.5mm操作步骤石膏牙：(Ⅲ类洞)设计外形：雕刻：在画线内0.5mm处下刀，先雕刻邻面洞，深约为3.0mm，再雕刻舌面洞，深约4mm修整洞形：修整洞形，使轴髓线角圆钝，可在点角处作倒凹固位形。操作步骤离体牙：Ⅲ类洞设计外形：用铅笔在上颌中切牙邻面和舌面画出Ⅲ类洞形邻面制备：用细裂钻或球钻在舌面边缘嵴的内侧钻入邻面，向切、龈方向扩展，并向唇面加深，形成唇壁、切壁及龈壁，完成邻面洞形。舌面制备：用裂钻或倒锥钻，自邻面洞约1毫米处，按外形设计向舌面窝扩展形成鸠尾形，注意制备过程中保持钻针与舌面垂直。修整洞形：注意邻面洞的梯形，舌面洞形的洞缘不越过中线，切壁在牙齿舌面的中1/3以内，洞缘角为直角，点线角要圆钝。操作步骤石膏牙：(Ⅴ类洞)设计外形：雕刻：沿设计的画线下刀，形成的洞底（髓壁）与牙颊面凸度一致，呈弧形平面，洞壁与洞底垂直，洞深约3.0毫米，且洞的深度在各个部位均相等。修整洞形：线角应清楚，可于龈轴线角和切轴线角的中份作倒凹。操作步骤离体牙：Ⅴ类洞设计外形：要求同石膏牙。制备洞形：选择小裂钻或倒锥钻，从颊面设计好的外形线内进钻至釉牙本质界下0.5毫米处，先形成近远中洞壁。保持深度，使钻针与颊面成垂直向四周扩展，龈壁止于龈切方1.0mm处，成为适应于颈曲线的圆弧形.修整洞形：使洞底成一弧形凸面，与所在牙面的弧度一致，洞壁与洞底垂直,并制备倒凹。注意事项•根据洞形设计要求，在石膏牙上设计窝洞外形，用红蓝铅笔画出窝洞的外形线。画好后请老师看一下！•在外形线内0.5-1.0毫米处，用雕刻刀平行于牙长轴形成洞侧壁，要求有支点，准确按外形成形。•修整洞形，使之呈现底平、壁直的标准洞形。•在整个雕刻过程中，要求石膏牙的咬合面朝上，平放于实习台上，以执笔式持雕刻刀。Ⅲ类洞的固位形特点是什么？为什么？Ⅴ类洞洞底为什么要与所在牙面的弧度一致？作业
