下载后可任意编辑2024 年全球光刻胶行业现状与竞争格局分析一、光刻胶行业进展概述起源于美国，柯达 KTFR 光刻胶为光刻胶工业的开创者，光刻胶跟随摩尔定律不断演进。1950s 贝尔实验室尝试开发首块集成电路，半导体光刻胶由此诞生，并成为六七十年代半导体工业的主力体系，为半导体工业进展立下汗马功劳。逻辑支撑跟随摩尔定律，光刻胶不断推动产业演进。i 线/g 线光刻胶的产业化始于上世纪 70 年代，KrF 光刻胶的产业化也早在上世纪 80 年代就由 IBM 完成。光刻胶是半导体，面板，PCB 等领域加工制造中的关键材料。光刻胶是由树脂，感光剂，溶剂，光引发剂等组成的混合液态感光材料。光刻胶应用的原理是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形转移到加工衬底上，来达到在晶圆上刻蚀出所需的图形或抗离子注入的目的。二、光刻胶行业进展现状光刻胶领域全球具有百亿市场。2024 年全球光刻胶市场规模约为 19 亿 美 元 ， 估 计 2024 年 将 达 到 21.34 亿 美 元 ， 同 比 增 长12.32%。下载后可任意编辑光刻胶是集成电路制造必不可少的关键原材料。2024 年中国集成电路产业首次突破万亿元。中国半导体行业协会统计，2024 年中国集成电路产业销售额达到 10458.3 亿元，同比增长 18.2%。三、光刻胶行业进展政策政策频出，为国产替代浪潮推波助澜：光刻胶是集成电路领域微加工的关键性材料，为推动光刻胶等半导体材料行业的进展，国家、地方层面政策先后出台。其中，既有国家层面印发的战略性、鼓舞性、支持性政策等，也有各个省市进一步落实国家政策发布的规划、意见、指导目录等。尤其在中美贸易冲突的影响下，产业供应链安全和自主可控成为重中之重，国产替代迫在眉睫，乃行业进展的大势所趋。四、光刻胶行业竞争格局目前全球的光刻胶生产企业主要集中在日本与美国，在最为尖端的 ArF 干法光刻胶、ArF 浸没式光刻胶和 EUV 光刻胶产品领域，日本与美国厂商拥有绝对的垄断地位，而我国在这些尖端半导体光刻胶产品上虽有一定的技术储备和产品验证，但是在量产层面完全处于空白。从全球市场来看，2024 年行业 CR6 约为 88%，市场集中度高。东京应化、JSR、住友化学、富士胶片四大日本企业分别占据下载后可任意编辑27%、13%、12%、8%的市场份额，陶氏化学占据 17%的市场份额，韩国东进占据 11%的市场份额。在 ArF 光刻胶方面，2024 年行业 CR6 达 94%，市场高度集中。JSR、信越化学、东...
