1、若某突变 PN结的 P 型区的掺杂浓度为163A1
5 10 cmN,则室温下该区的平衡多子浓度pp0与平衡少子浓度 np0分别为(316105
1cmNA)和(314105
1cmNA)
2、在 PN结的空间电荷区中, P 区一侧带(负)电荷, N区一侧带(正)电荷
建电场的方向是从(N)区指向( P)区
[ 发生漂移运动,空穴向P区,电子向 N区] 3、当采用耗尽近似时, N型耗尽区中的 泊松方程为 (DSEuqdxd)
由此方程可以看出,掺杂浓度越高,则建电场的斜率越( 大)
4、PN结的掺杂浓度越高, 则势垒区的长度就越 (小),建电场的最大值就越 (大),建电势 Vbi 就越(大),反向饱和电流 I 0就越(小) [P20] ,势垒电容 CT就越( 大 ),雪崩击穿电压就越(小)
5、硅突变结建电势Vbi 可表为(2lniDAbinNNqKTv)P9,在室温下的典型值为(0
6、当对 PN结外加正向电压时,其势垒区宽度会(减小),势垒区的势垒高度会(降低)
7、当对 PN结外加反向电压时,其势垒区宽度会(增大),势垒区的势垒高度会(提高)
8 、 在 P 型 中 性 区 与 耗 尽 区 的 边 界 上 , 少 子 浓 度np 与 外 加 电 压V 之 间 的 关 系 可 表 示 为()exp()(0KTqvpppnxn)P18
若 P型区的掺杂浓度173A1
5 10 cmN,外加电压 V = 0
52V ,则 P型区与耗尽区边界上的少子浓度np为(3251035
9、当对 PN结外加正向电压时,中性区与耗尽区边界上的少子浓度比该处的平衡少子浓度(大);当对PN结外加反向电压时,中性区与耗尽区边界上的少子浓度比该处的平衡少子浓度(小)
10、PN结的正向电流由(空穴扩散)电流、(电子扩散)电流和(势垒区复合)电流三部分所组成