多晶硅生产中设备、管道的清洗 一、概述 多晶硅生产对环境及设备的清洁要求十分高
生产工艺过程比较复杂
尤其是塔器设备，对产品的质量影响极为重要
为了保证一次性开车投产顺利，保证产品质量，在设备的安装过程中，对设备及管线等重要设备的清洗工作十分严谨
在清洗过程中，使每个环节质量都达到标准
避免开车质量事故的发生
最大限度地降低调试费用，必须做好工艺设备和工艺管道安装前的清洗处理
针对不同的工艺要求、不同的设备材质以及不同的设备类型，清洗处理要求和达到的基本标准（要求达到无油、无水与无尘的三无要求）也不同
同时符合《脱脂工程施工及验收规范》和《工业设备化学清洗质量标准》并根据业主和成达公司的具体要求可分为一般清洗和洁净清洗
多晶硅设备的清洗主要工艺为酸洗、脱脂、钝化、干燥等，其中最关键是脱脂工艺和干燥技术
油脂和水对多晶硅的产品有巨大影响
因此在多晶硅设备的清洗中，以脱脂工艺和干燥工艺为要点
主要清洗还原炉、氢化炉、 CDI 设备、合成车间、还原氢化车间、精馏系统、中间罐、管道等主要设备
并且为了保证脱脂和干燥的质量，多晶硅设备清洗需要对单台设备进行单台清洗并验收后，再进行安装
二、污垢主要对多晶硅影响因素 1、油脂：在多晶硅生产过程中，油分子对多晶硅的危害十分严重
实际证明，整个工艺系统几 ppm 的油含量就可能造成多晶硅反应速度减慢，产量降低，甚至硅反应停止
因此，多晶硅设备的脱脂工艺尤为重要
2、水分：水中含有大量的氯离子，氯离子对多晶硅的反应十分敏感
设备及系统干燥工艺很关键
3、氯离子残留：水和其他溶液在设备表面残留的氯离子对多晶硅影响十分大
因此，在清洗后对设备进行纯水冲洗工艺十分重要
4、氧化物、灰尘其他杂质：其他污垢的存在，对多晶硅的生产影响也很大
因此，在设备清洗过程中，采用酸洗工艺对其他污垢进行清洗十分必要
三、国内大、中型化工生产装置清洗现状
