多晶硅太阳能电池制作工艺概述众所周知，太阳能有许多优点，光伏发电将为人类提供主要的能源，目前提高太阳电池的光电转换效率，降低生产成本可以扩建市场，太阳电池有以下几种：单晶硅、多晶硅、带状硅、薄膜材料
从工业方面看，重心已由单晶向多晶方向发展，主要原因为；[1]可供应太阳电池的头尾料愈来愈少；[2] 对太阳电池来讲，方形基片更合算；[3]多晶硅的生产工艺不断取得进展；[4]近十年单晶硅工艺应用于多晶硅电池的生产
下面从两个方面对多晶硅电池的工艺技术进行讨论
实验室高效电池工艺实验室技术通常研究达到最高效率的方法和途径，提供特定材料和工艺所能够达到的极限
1 关于光的吸收对于光吸收主要是：（1）降低表面反射；（2）改变光在电池体内的路径；（3）采用背面反射
对于单晶硅，应用各向异性化学腐蚀的方法可在（100）表面制作金字塔状的绒面结构，降低表面光反射
但多晶硅晶向偏离（100）面，采用上面的方法无法作出均匀的绒面，目前采用下列方法:[1]激光刻槽用激光刻槽的方法可在多晶硅表面制作倒金字塔结构，激光制作绒面在刻蚀中，表面造成损伤引入杂质，通过化学处理去除表面损伤层
该方法所作的太阳电池通常短路电流较高，但开路电压不太高
[2]化学刻槽应用掩膜各向同性腐蚀，该方法无法形成各向异性腐蚀所形成的那种尖锥状结构
该方法所形成的绒面对 700～1030 微米光谱范围有明显的减反射作用
但掩膜层一般要在较高的温度下形成，引起多晶硅材料性能下降，少子寿命缩短
[3]反应离子腐蚀（RIE）该方法为一种无掩膜腐蚀工艺，形成的绒面反射率特别低，在 450～1000 微米光谱范围的反射率可小于 2％
仅从光学的角度来看，是一种理想的方法，但存在硅表面损伤严重问题
[4]制作减反射膜层对于高效太阳电池，最常用和最有效的方法是蒸镀ZnS/MgF2 双层减反射膜，其最佳厚度取决于下面氧化层的厚度和
