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常见镀膜方法调查VIP免费

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常见镀膜方法 1、 脉冲激光沉积 (PLD) PLD 原理:脉冲激光沉积法(PLD 法)是一种全新的工艺,但是具有很大的潜力。PLD 法的原理是利用激光对物体进行轰击后被轰击出来的物质,将被轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,并得到沉淀或者薄膜的一种手段。 PLD 优点:1、与其他工艺相比,作为一种全新的成膜技术,它的生长参数独立可调,并可精确控制化学计量比,从而易于实现超薄薄膜的生长和多层膜的制备,生长的薄膜结晶性能较好,膜的平整度也较高。2、除非是极少数对该种激光而言是透明的材料,几乎所有的材料都可用 PLD 法制膜,可见PLD 法可制膜种类之多。3、PLD 技术的成膜效率高,能够进行批量生产。 PLD 缺点:1、在镀膜过程中,薄膜会被沉积在薄膜上的等离子体管中产生的微粒、气态原子和分子降低质量,采取一定的措施后也不能完全消除。2、在控制掺 杂 、生长平滑 的多层膜等方面PLD 生长都比较困 难 ,因 此 进一步 提 高薄膜的质量会比较困 难 。3、PLD 法镀膜厚 度不够均 匀 ,等离子体羽 辉 中的粒子速 率在不同的方向 有所不同,使 粒子分布 不均 。4、等离子局 域 分布 难 以 形 成大面 积的薄膜。 应 用及 前 景 :有望 在高质量 ZnO 薄膜的研 究 和生产中得到广 泛 的应 用。PLD 法将在半 导 体薄膜、超晶格 、超导 、生物涂 层等功 能薄膜的制备方面 发 挥 重 要 的作用; 并能加 快 薄膜生长机 理的研 究 和提 高薄膜 的 应 用 水 平 ,加 速 材 料 科 学 和 凝 聚 态 物 理 学 的 研 究 进 程 。 同 时 也 为新 型 薄 膜 的 制 备 提 供 了 一 种 可 行 的 方 法 。 2、 化 学 气 相 沉 积 (CVD) CVD 原 理 : 它 是 一 种 或 几 种 气 态 反 应 物 在 衬 底 表 面 发 生 化 学 反 应而 沉 积 成 膜 的 工 艺 。 反 应 物 质 是 由 金 属 载 体 化 合 物 蒸 汽 和 气 体 载 体 所构 成 , 沉 积 在 衬 底 上 形 成 金 属 氧 化 物 薄 膜 , 衬 底 表 面 上 发 生 的 这 种 化学 反 应 通 常 包 括 金 属 源 材 料 的 热 分 解 和 原 位 氧 化 。 优 点 : 1、 CVD 技 术 所 形 成 的 膜 层 致 密 且 均 匀 , 膜 层 与 基 体 的 结合 牢 固 , 薄 ...

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