第 1 页 共 1 6 页 发展超大规模集成电路用 超净高纯试剂的项目 （一） 项目介绍 1.超净高纯试剂－微电子技术的支柱 微电子技术主要是指用于半导体器件和集成电路(IC)微细加工制作的一系列蚀刻和处理技术,其中集成电路,特别是大规模及超大规模集成电路的微细加工技术又是微电子技术的核心,是电子信息产业最关键、最为重要的基础。微电子技术发展的主要途径之一是通过不断缩小器件的特征尺寸,增加芯片的面积,以提高集成度和速度。自 20世纪 70年代后期至今,集成电路芯片的发展基本上遵循GordonEM预言的摩尔定律,即每隔 1.5年集成度增加1倍,芯片的特征尺寸每 3年缩小 2倍,芯片面积增加约 1.5倍,芯片中晶体管数增加约 4倍,也就是说大体上每 3年就有一代新的IC产品问世。 在国际上,1958年美国首先研制成功集成电路开始,尤其是20世纪 70年代以来,集成电路微细加工技术进入快速发展的时期,这期间相继推出了 4、16、256K;1、4、16、256M;1、1.3、1.4G的动态存贮器。进入 20世纪 90年代后期,IC的发展更迅速,竞争更激烈。美国的Intel公司、AMD公司和日本的NEC公司这 3个 IC生产厂家的竞争尤为激烈,1999年 Intel公司、AMD公司均实现了 0.25Lm技术的生产化,紧接着 Intel公司在 1999年底又实现了 0.18Lm技术的生产化,AMD公司也在紧追不舍。到 2001年上半年,Intel公司实现了 0.13Lm技术的生产化,而到 2001年的2季度末,日本的NEC公司宣布突破了 0.1Lm工艺技术的难关,率先成功研发出 0.095Lm的半导体工艺技术,现已开始接受全球各地厂商的订货,并将于2001年的11月开始批量生产。因此,专家们认为世界半导体工艺技术的发展将会加速,半导体制造厂商将会以更先进的技术加快升级换代以适应新的市场要求。 第 2 页 共 1 6 页 超净高纯试剂（Ultra-clean and High-purity Reagents）在国际上通称为工艺化学品（Process Chemicals），美欧和中国台湾地区又称湿化学品（Wet Chemicals），是超大规模集成电路（即俗称的“芯片”）制作过程中的关键性基础化工材料之一，主要用于芯片的清洗、蚀刻，另外超净高纯试剂还用于芯片掺杂和沉淀工艺。超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影响。超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、贮存有效期短和腐蚀性强等特点，它基于微电子技术的发展而产生，一代IC 产品需要一代的超净高纯试剂与之配套。它随着微电子技术的发展而同步或超...
