第三章、器件 一、超深亚微米工艺条件下 MOS 管主要二阶效应： 1、速度饱和效应：主要出现在短沟道 NMOS 管，PMOS 速度饱和效应不显著。主要原因是THGSVV太大。在沟道电场强度不高时载流子速度正比于电场强度（ ），即载流子迁移率是常数。但在电场强度很高时载流子的速度将由于散射效应而趋于饱和，不再随电场强度的增加而线性增加。此时近似表达式为： （c ），csat（c ），出现饱和速度时的漏源电压DSATV是一个常数。线性区的电流公式不变，但一旦达到DSATV，电流即可饱和，此时DSI与GSV成线性关系（不再是低压时的平方关系）。 2、Latch-u p效应：由于单阱工艺的 NPNP 结构，可能会出现 VDD 到 VSS 的短路大电流。 正反馈机制：PNP 微正向导通，射集电流反馈入 NPN 的基极，电流放大后又反馈到 PNP 的基极，再次放大加剧导通。 克服的方法：1、减少阱/衬底的寄生电阻，从而减少馈入基极的电流，于是削弱了正反馈。 2、保护环。 3、短沟道效应：在沟道较长时，沟道耗尽区主要来自 MOS 场效应，而当沟道较短时，漏衬结（反偏）、源衬结的耗尽区将不可忽略，即栅下的一部分区域已被耗尽，只需要一个较小的阈值电压就足以引起强反型。所以短沟时 VT 随 L 的减小而减小。 此外，提高漏源电压可以得到类似的效应，短沟时 VT 随 VDS 增加而减小，因为这增加了反偏漏衬结耗尽区的宽度。这一效应被称为漏端感应源端势垒降低。 4、漏端感应源端势垒降低（DIBL）： VDS 增加会使源端势垒下降，沟道长度缩短会使源端势垒下降。VDS 很大时反偏漏衬结击穿，漏源穿通，将不受栅压控制。 5、亚阈值效应（弱反型导通）：当电压低于阈值电压时 MOS 管已部分导通。不存在导电沟道时源（n+）体（p）漏（n+）三端实际上形成了一个寄生的双极性晶体管。一般希望该效应越小越好，尤其在依靠电荷在电容上存储的动态电路，因为其工作会受亚阈值漏电的严重影响。 绝缘体上硅（SOI） 6、沟长调制：长沟器件：沟道夹断饱和；短沟器件：载流子速度饱和。 7、热载流子效应：由于器件发展过程中，电压降低的幅度不及器件尺寸，导致电场强度提高，使得电子速度增加。漏端强电场一方面引起高能热电子与晶格碰撞产生电子空穴对，从而形成衬底电流，另一方面使电子隧穿到栅氧中，形成栅电流并改变阈值电压。 影响：1、使器件参数变差，引起长期的可靠性问题，可能导致器件失效。2、...
