1 FM DATA SHEET 7-7 半导体制造厂相关设备(update) ※ 1
”Factory Mutual Research Approached”以下简称为”经FM 核准” ※ 2
”Listed”代表经登录之产品 1
0 范围 本篇损害防阻数据包含一般半导体制造流程及其危害
1 结构 2
1 厂址选择 2
1 洁净室及相关附属设备(如subfab,电力设施,废弃物设施,化学品设施等)应避免下列暴露: a
避免来自洁净室区域内其它区域的暴露,在洁净室建筑的区域内应无其它用途之区域; b
天灾(包括暴风、地层事故、寒冷天气、冰雹、洪水等); c
厂内或厂外的火源,包括邻近区域、外部建筑、闪电、大火等; d
由管线或设备造成的液体危害,如排水系统或液体输送系统; e
通风设备的进气入口附近是否有污染物
2 洁净室及及相关附属设备厂址的选择最好在具有高度的位置上,避免因涨潮或排水系统倒灌而造成地下层损失的可能
2洁净室结构 2
1洁净室应与其它邻近地区隔开,或者对于原本的危害威胁有一小时的抵抗时间(1-hour rated~),但介于洁净室与邻近区域之间的air shower(入口处)除外(应为不可燃材质);有窗户的走廊或墙亦应为不可燃材质;当邻近区域的危害大于原有区域的危害时,邻近区域应安排于另一独立建筑
2洁净室内部隔间的材质应为不可燃材质,并能避免烟(smoke)及熏烟(fume)等污染物扩散,黄光区(photolithography)及邻近区域间、生产区之间、湿式蚀刻与邻近区域之间应由天花板到地板作完全区隔
3装修楼地板及墙的材料应与洁净室一样,同为不可燃材质,或经 FM核准或FM特殊测试合格,适用于洁净室的材质
4设计洁净室与洁净室下层(subfab)的区隔楼板应