精品文档---下载后可任意编辑CfSiC 基体多层近红外反射膜的制备与性能讨论中期报告近红外反射膜在太阳能电池、窗户隔热、激光反射等领域有着广泛的应用。本讨论基于常压化学气相沉积技术(CVD)制备了一种多层结构的近红外反射膜，基底采纳 CfSiC 陶瓷基板，材料选用 SiO2 和 Ag 交替沉积在基板上。首先制备了 CfSiC 基板，制备方法为真空热压。然后将基板放入CVD 反应室，采纳气态前体 SiH4 和 O2 反应，制备出纯 SiO2 层。在气氛不变的情况下，加入 Ag 前体 Ag(C8H17O2)2，并将温度降低至350℃左右，以 Ag/SiO2 异质结的形式沉积 Ag。交替沉积 SiO2 和Ag，最终得到了多层近红外反射膜。制备出的膜在近红外波段具有高反射率，最大反射率达到了 95%。同时，膜还具有一定的透过率，对于可见光和紫外光有较好的透过性。在热处理实验中，膜具有很好的耐热性能，温度高达 500℃时仍能保持高反射率。本讨论的近红外反射膜制备方法简单、成本低廉，具有潜在的应用前景。下一步将继续对膜的结构和性能进行优化，以提高其反射率和热稳定性。同时，还将进一步讨论膜的透过率和光学性能，深化探究其在实际应用中的潜力。
