精品文档---下载后可任意编辑Mg 和 Re 团簇表面自扩散及 Al 在 Mg 团簇上生长的原子模拟中期报告本次原子模拟的目的是讨论 Mg 和 Re 团簇表面自扩散以及 Al 在 Mg团簇上生长的行为。以下是中期报告的主要内容：1. 初始结构的构建：我们采纳密度泛函理论计算了不同大小的 Mg和 Re 团簇的最稳定结构，然后利用细胞动力学方法构建了初始结构。在Mg 团簇上生长 Al 时，我们将 Al 原子添加到 Mg 团簇表面的最稳定位置。2. 表面自扩散模拟：我们对单个 Mg 和 Re 团簇进行了表面自扩散模拟，结果表明，Mg 团簇比 Re 团簇更容易发生表面自扩散。在 Mg 团簇上，自扩散常数从小到大依次为(100)，(110)，(111)晶面。3. Al 在 Mg 团簇上的生长：我们对初始结构进行了分子动力学模拟，观察 Al 在 Mg 团簇上的生长行为。结果表明，Al 原子在 Mg 团簇(111)晶面上呈现出明显的方向性生长，而在(100)和(110)晶面上则较难观察到明显的方向性。4. 计算和分析：我们对表面自扩散常数和 Al 在 Mg 团簇上的生长进行了计算和分析，得到了一些有意义的结论。例如，Mg 团簇(111)晶面具有最高的自扩散常数和最强的 Al 生长方向性。此外，我们还观察到在低温下自扩散常数较低，但随着温度升高而增加。总的来说，我们的原子模拟结果表明，Mg 团簇比 Re 团簇更有利于表面自扩散，同时在 Mg 团簇(111)晶面上的 Al 生长方向性最强。这些结果为我们进一步讨论 Mg 团簇和 Al 之间的相互作用提供了一些有用的参考。
