精品文档---下载后可任意编辑Mg 和 Re 团簇表面自扩散及 Al 在 Mg 团簇上生长的原子模拟中期报告本次原子模拟的目的是讨论 Mg 和 Re 团簇表面自扩散以及 Al 在 Mg团簇上生长的行为。以下是中期报告的主要内容:1. 初始结构的构建:我们采纳密度泛函理论计算了不同大小的 Mg和 Re 团簇的最稳定结构,然后利用细胞动力学方法构建了初始结构。在Mg 团簇上生长 Al 时,我们将 Al 原子添加到 Mg 团簇表面的最稳定位置。2. 表面自扩散模拟:我们对单个 Mg 和 Re 团簇进行了表面自扩散模拟,结果表明,Mg 团簇比 Re 团簇更容易发生表面自扩散。在 Mg 团簇上,自扩散常数从小到大依次为(100),(110),(111)晶面。3. Al 在 Mg 团簇上的生长:我们对初始结构进行了分子动力学模拟,观察 Al 在 Mg 团簇上的生长行为。结果表明,Al 原子在 Mg 团簇(111)晶面上呈现出明显的方向性生长,而在(100)和(110)晶面上则较难观察到明显的方向性。4. 计算和分析:我们对表面自扩散常数和 Al 在 Mg 团簇上的生长进行了计算和分析,得到了一些有意义的结论。例如,Mg 团簇(111)晶面具有最高的自扩散常数和最强的 Al 生长方向性。此外,我们还观察到在低温下自扩散常数较低,但随着温度升高而增加。总的来说,我们的原子模拟结果表明,Mg 团簇比 Re 团簇更有利于表面自扩散,同时在 Mg 团簇(111)晶面上的 Al 生长方向性最强。这些结果为我们进一步讨论 Mg 团簇和 Al 之间的相互作用提供了一些有用的参考。