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Ru表面外延石墨烯的插层以及点缺陷散射态的研究的开题报告

Ru表面外延石墨烯的插层以及点缺陷散射态的研究的开题报告_第1页
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精品文档---下载后可任意编辑Ru(0001)表面外延石墨烯的插层以及点缺陷散射态的讨论的开题报告一、讨论背景和意义石墨烯是一种新型的二维材料,具有优异的电学、光学和力学性能,因此被广泛应用于电子器件、传感器、储能材料等领域。石墨烯在实际应用中,需要与其他材料进行界面结合,而石墨烯的界面结合能力与其表面的微观结构密切相关。因此,对石墨烯表面微观结构的讨论对于石墨烯的实际应用具有重大意义。Ru(0001)作为一种常见的金属基底,其表面的微观结构对于石墨烯的生长及其与 Ru(0001)的结合具有重要影响。插层和点缺陷是Ru(0001)/石墨烯界面的典型微观结构。因此,对 Ru(0001)表面外延石墨烯的插层以及点缺陷散射态的讨论具有重要意义。二、讨论内容本论文将采纳第一性原理计算方法,讨论 Ru(0001)/石墨烯界面的插层和点缺陷散射态。讨论内容主要包括以下几个方面:1.计算 Ru(0001)表面上石墨烯的异质结合能、界面电荷分布以及电子结构等多种性质。2.讨论 Ru(0001)/石墨烯界面上插层的结构、稳定性以及对界面性质的影响。3.探究 Ru(0001)/石墨烯界面上点缺陷散射态的产生机理、性质以及对电子传输性质的影响。三、讨论意义本讨论将对石墨烯在实际应用中的应力、界面耐久性以及电子传输性质等方面进行深化探究,对于石墨烯的实际应用具有实际意义。同时,本讨论将从微观层面揭示石墨烯和金属基底之间的相互作用机理,对于相关领域的讨论工作也具有借鉴和启示作用。

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