精品文档---下载后可任意编辑SOI 工艺标准单元库建立和 PDK 开发的开题报告1
背景随着集成电路设计需求的不断增加,工艺标准单元库(Standard cell library)作为集成电路设计的关键环节,逐渐进展成为宏观电路设计的基石
为满足不同企业和个人的设计需求,各大半导体公司纷纷开发自己的工艺标准单元库,并提供 PDK(Process Design Kit)以进行芯片设计
因此,SOI 技术下的工艺标准单元库建立和 PDK 开发成为当前的热门讨论方向
讨论目的本讨论的主要目的是建立面对 SOI 工艺的标准单元库,并开发相应的 PDK,以促进 SOI 工艺下芯片设计的实现和进展
1 SOI 工艺标准单元库建立SOI 工艺下的工艺标准单元库建立,需要考虑的因素包括器件的特性、功耗、时序、噪声以及成本等
本讨论将在深化分析 SOI 工艺的基础上,建立符合 SOI 工艺特性和要求的标准单元库
2 PDK 开发PDK 是实现 SOI 工艺下芯片设计的关键
PDK 的开发包括器件模型文件、版图布局规则、DRC/LVS 检查规则等
本讨论将基于标准单元库的设计,开发相应的 SOI 工艺 PDK 来满足芯片设计的需要
预期成果本讨论将建立符合 SOI 工艺特性和要求的标准单元库,并基于标准单元库开发 SOI 工艺 PDK
预期结果包括:(1)符合 SOI 工艺特性和要求的标准单元库,并提供完整的库文件和文档
(2)基于标准单元库开发的 SOI 工艺 PDK,包括器件模型文件、版图布局规则、DRC/LVS 检查规则等,为芯片设计提供便利和法律规范
讨论方法本讨论将采纳以下讨论方法:精品文档---下载后可任意编辑(1)深化分析 SOI 工艺特性和要求,为建立符合 SOI 工艺的标准单元库提供依据
(2)参考已有的芯片设计和工艺标准单元库,进