殿向 表面処理排水処理設備 製 作 仕 様 書 ・作 成 年 月 日・改訂(1) 年 月 日・改訂(2) 年 月 日・改訂(3) 年 月 日・改訂(4) 2 第Ⅰ章 設 計 基 準 Ⅰ－（１） 水 量 ◆ 日間排水量 ： 48 ㎥／日 （設計） ◆ 排水時間 ： 16 時間／日 ◆ 設備能力 ： Ave.3.0 ㎥／時 ◆ 処理時間 ： 化学処理＝16 時間／日 [昼夜連続] 生物処理＝24 時間／日 [昼夜連続] 排 水 種 別 常時排水系 小計2782.5L／Hr 更新排水系 小計 4.5L／Hr 湯洗 （ 100L／Hr） 予備脱脂（1） 0.7T／3 月→（0.7L／Hr） 脱脂系水洗 （ 270L／Hr） 予備脱脂（2） 2.4T／3 月→（2.5L／Hr） 化成系水洗 （ 400L／Hr） 純水洗 2.4T／6 月→（1.3L／Hr） Ro 濃縮水 （1200L／Hr） 電着純水洗 （ 670L／Hr） 電着極液 （ 30L／Hr） 純水再生 （ 50L／Hr） ボイラードレン （ 50L／Hr） 表面調整 （ 7.5L／Hr） 酸洗槽 （ 5.0L／Hr） 混 合 排 水 合計 2787L／Hr（44.6 ㎥／日） Ⅰ－（２） 水 質 項 目 単 位 混 合 排 水 1 次処理水 2 次処理水 水 質 基 準 凝沈上澄水 最終処理水 ① p H ― 5.5～10.0 8.5～9.5 6.0～8.0 6.0～9.0 ② S S mg/L 100～150 ＜ 20 ＜ 10 ＜ 70 ③ C O D 〃 112～136 ＜ 110 ＜ 80 ＜ 100 ④ B O D 〃 89～102 ＜ 80 ＜ 15 ＜ 20 ⑤ n-Hex. 〃 27～38 ＜ 5 ＜ 3 ＜ 5 ⑥ Ni 〃 4～9 ＜ 1 ＜ 1 ＜ 1 ⑦ Zn 〃 9～14 ＜ 2 ＜ 2 ＜ 20 ⑧ T－P 〃 162～249 備 考 － 御参考水質 御参考水質 ※ その他の有害物質や、重金属類は含まれないものとします。 3 第Ⅱ章 処 理 系 統 Ⅱ－（１） 処理系統図 pH AG 1 次反応槽 硫 酸 塩化第二鉄 排 水 LC 常時排水槽 LC 更新排水槽 pH AG 2 次反応槽 AG 凝 集 槽 凝集沈殿槽 LC AG 逆中和槽 LC AG 汚 泥 槽 脱 水 機 消 石 灰 高分子助剤 AR 曝 気 槽 生物沈殿槽 LC 放流中継槽 活性炭吸着塔 pHIR 放流監視槽 放 流 苛性ソーダ 調 整 槽 AR AR 4 Ⅱ－（２） 流れの説明 はじめに 排水は、比較的、希薄な『塗装前処理排水系』の常時排水と濃厚な『予備 脱脂更新排水、電着純水洗系』から成り、前者と後者とは別々...
