胶体的制备与性质 第一节 胶体的制备和净化 胶粒：1—100 nm，原则上可由原子、分子凝聚成胶体（凝聚法），也可由大块物质分散成胶体（分散法）
一、胶体制备的一般条件 1
分散相在介质中的溶解度必须极小，浓度低 OHHCS52——真溶液）溶胶（溶解度极小，滴入水中OHS2/ 低溶解度是形成溶胶的必要条件之一，同时还需要反应物的浓度很稀，生成的难溶物晶粒很小而又无长大条件时才能得到胶体
若反应物浓度很大，细小的难溶物颗粒突然生成很多，易形成半固体状的凝胶
必须有稳定剂存在 分散胶体体系中存在巨大的界面积，属热力学不稳定体系，胶体需要稳定剂作用才能稳定存在
二、胶体的制备方法 1
分散法：机械分散、电分散、超声分散和胶溶法 通过不同的能量或作用方式分散大块物体→胶粒 胶溶法是某些新生成的沉淀中加入适量的电解质或置于某一温度下使胶体重新分散成溶胶
如正电胶 MMH（moled metal hy drox ide）或 MMLHC：mix ed metal lay ered hy drox ide compou nd 在一定比例的 AlCl3·MgCl2 混合溶液中，加入稀氨水，形成混合金属氢氧化物沉淀（半透明凝胶状），经多次洗涤后（目的在于控制其中的氯离子浓度），置该沉淀于80℃下恒温，凝胶逐渐形成带正电的溶胶
MMH用途很广——钻井液添加剂、聚沉剂、防沉剂等
胶溶法：新形成的洗涤过的溶液沉淀加入少量33)(FeClOHFe→搅拌→沉淀转化为红棕色的3)(OHFe溶胶→机械粉碎——球磨机、振动磨、冲击式粉碎机、胶体磨、离心磨
研磨过程中，增大增大，SAGS，颗粒有聚集倾向（颗粒间有吸引力；颗粒增大，SG 减小）
分散 聚集平衡，颗粒不再磨细
要提高研磨效率，防聚可采取溶剂冲稀或加入稳定剂吸附表面——工业 SAA，油漆工业，研磨色料（SAA保护
