半导体 IC 制造流程》一、晶圆处理制程晶圆处理制程之主要工作为在硅晶圆上制作电路与电子组件（如晶体管、电容体、逻辑闸等,为上述各制程中所需技术最复杂且资金投入最多的过程,以微处理器（Microprocessor 为例,其所需处理步骤可达数百道,而其所需加工机台先进且昂贵,动辄数千万一台，其所需制造环境为为一温度、湿度与含尘量（Particle 均需控制的无尘室（Clean-Room,虽然详细的处理程序是随着产品种类与所使用的技术有关;不过其基本处理步骤通常是晶圆先经过适当的清洗（Cleaning 之后，接着进行氧化（Oxidation 及沈积,最后进行微影、蚀刻及离子植入等反复步骤,以完成晶圆上电路的加工与制作
二、晶圆针测制程经过 WaferFab 之制程后,晶圆上即形成一格格的小格，我们称之为晶方或是晶粒（Die，在一般情形下，同一片晶圆上皆制作相同的芯片，但是也有可能在同一片晶圆上制作不同规格的产品;这些晶圆必须通过芯片允收测试,晶粒将会一一经过针测（Probe 仪器以测试其电气特性,而不合格的的晶粒将会被标上记号（InkDot，此程序即称之为晶圆针测制程（WaferProbe
然后晶圆将依晶粒为单位分割成一粒粒独立的晶粒，接着晶粒将依其电气特性分类（Sort 并分入不同的仓（DieBank,而不合格的晶粒将于下一个制程中丢弃
三、IC 构装制程IC 构装制程（Packaging 则是利用塑料或陶瓷包装晶粒与配线以成集成电路（IntegratedCircuit;简称 IC,此制程的目的是为了制造出所生产的电路的保护层，避免电路受到机械性刮伤或是高温破坏
最后整个集成电路的周围会向外拉出脚架（Pin,称之为打线，作为与外界电路板连接之用
四、测试制程半导体制造最后一个制程为测试,测试制程可分成初步测试与最终测试,其主要目的除了为保证顾客所要的货无缺点外，也将依规格划分
