不同遮荫处理对窄头橐吾(Ligularia stenocephala)的影响不同遮荫处理对窄头橐吾(Ligularia stenocephala)的影响 摘 要：本文以窄头橐吾为试验材料，从 2025 年 3 月至 2025年 5 月对其进行了耐荫性观测及净光合速率等的测定，探讨在温室内不同的遮荫处理（全光照，55%，75%，95%）对其生长发育，光合特性的影响。试验结果表明，55%的的遮荫对窄头橐吾的生长发育最有利。在不同的遮荫处理下，窄头橐吾具有较低的光补偿点和较高的光饱和点，证明该植物是一种不仅具有较高的耐荫力而且又有一定喜阳性的野生地被植物，在园林应用中有很大的潜力。 关键词：窄头橐吾；耐荫性；净光合速率；光补偿点；光饱和点 中图分类号：J522.3 文献标识码：A 文章编号： 窄头橐吾是一种多年生草本植物，茎直立，高 40-80?，无毛。基生叶与茎下部叶的叶片心状戟形，稀箭形，长 7-17?，宽 6-20?，先端圆形而有突出的小尖头，基部宽心形，边缘具有不整齐锯齿，下方外展，有数个大齿，两面无毛，有时下面脉上有短毛，叶脉掌状，具长叶柄，中上部叶片较小，头状花序多数，排列呈总状，总花梗长 1-7?。总苞狭筒形至宽筒形，直径 2.5-4?，总苞片 2 层，长圆形，先端急尖，外面无毛，内层边缘膜；缘花舌状，黄色，1-4朵，舌片线状长圆形，雌性结实；盘花管状，5-10 朵，两性，结实。瘦果倒披针形，有纵肋，无毛，冠毛污白色，短于花冠筒。花果期为 6-9 月[15]。窄头橐吾主要分布于河北、河南、山东、四川、山西、江苏、浙江、云南、贵州、台湾等省，日本也有分布。且窄头橐吾主要分布在海拔 890-3100m 处。窄头橐吾性喜荫蔽、凉爽、湿润的环境，多分布在山区腐殖土层深厚、土质疏松肥沃的阔叶林、针阔混交林下，或生于密集的灌木丛间，山沟底部稍湿润的地方及林缘地带。本文以浙江省临安市境内的天目山为试验点。试验结果表明，55%的的遮荫对窄头橐吾的生长发育最有利。在不同的遮荫处理下，窄头橐吾具有较低的光补偿点和较高的光饱和点，证明该植物是一种不仅具有较高的耐荫力而且又有一定喜阳性的野生地被植物，在园林应用中有很大的潜力。 一、不同遮荫处理对窄头橐吾生长发育的影响 （一）不同遮荫处理对窄头橐吾植株高度的影响 当对植物进行遮荫时，植物就会进行适度的自我调节，在植株高度上主要表现为植株长高不长粗[17]。本试验讨论结果如表 5-1所示与讨论理论相符合，随着遮光度的增加，株高也随之增高，且未出现黄化现象，表明植株...
